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횡 전자 집속에서 스핀 분할 피크의 온도 의존성

초록

우리는 n형 GaAs를 사용하여 수행된 횡방향 전자 집속 측정의 실험 결과를 제시합니다. 작은 횡방향 자기장(B⊥ ), 전자는 인젝터에서 검출기로 집중되어 B⊥에서 주기적인 포커싱 피크로 이어집니다. . 홀수 초점 피크가 분할을 나타내는 것을 보여줍니다. 여기서 각 하위 피크는 인젝터에서 나오는 특정 스핀 분기의 모집단을 나타냅니다. 온도 의존성은 피크 분할이 저온에서 잘 정의되는 반면 고온에서는 번져 인젝터의 교환 구동 스핀 분극이 저온에서 지배적임을 나타냅니다.

<섹션 데이터-제목="배경">

배경

GaAs/AlGaAs 이종 구조의 계면에 형성된 2차원 전자 가스(2DEG)를 사용하여 구현된 준 1차원(1D) 시스템을 통한 전자 수송이 광범위하게 연구되었습니다. 1D 시스템은 전도도 양자화 [1–3]가 \(n\times \frac {2e^{2}}{h}\ 단위인 상호 작용하지 않는 양자 역학 시스템을 상상할 수 있는 뛰어난 플랫폼을 제공합니다. ), 여기서 n =1,2,3...은 서로 다른 1D 에너지 부분대역이지만 다물체 물리학을 탐구하는 장소이기도 합니다[4-9]. 최근, 초기 Wigner 결정화로 이어지는 저밀도 1D 시스템의 풍부한 위상에 대한 예측 및 실험적 시연으로 인해 다물체 1D 시스템의 물리학의 발전이 가속화되고 있습니다[6, 7, 10]. 또한, 다물체 1D 시스템의 프레임워크에서 0.7 컨덕턴스 이상 현상의 기원은 여전히 ​​논쟁의 여지가 있습니다[11-15]. 0.7 이상은 두 가지 주요 특징이 있습니다. 첫째, 면내 자기장이 존재할 때 0.7 이상은 \(0.5\times \frac {2e^{2}}{h}\) 고원으로 진화하여 이를 나타냅니다. 스핀과 관련이 있습니다[4]. 둘째, 0.7 이상은 온도가 감소(증가)함에 따라 약화(강화)되는 것으로 밝혀졌다[4]. 이러한 놀라운 관찰은 0.7 이상과 관련된 고유 스핀 분극을 조사하기 위한 많은 이론적 및 실험적 시도로 이어졌습니다. 그러나 이 이상 현상의 기원에 대해서는 일치된 의견이 없습니다[11-15]. 따라서 0.7 이상에 대해 더 많은 빛을 비추기 위해서는 1D 채널 내에서 스핀 편광에 대한 직접 측정을 수행하는 것이 필수적입니다.

TEF(Transverse Electron Focusing) 기반 방식은 스핀 분극을 해결하기 위해 제안되었으며[16, 17] p형 GaAs[18, 19] 및 n형 InSb[20]에서 검증되었습니다. 이 방식 내에서 교환 상호 작용으로 인해 발생하는 스핀 분극은 첫 번째 포커싱 피크의 두 하위 피크의 비대칭에서 추출할 수 있습니다. 최근에 우리는 스핀이 공간적으로 분리된 1D 전자의 주입이 첫 번째 포커싱 피크에서 분할 형태로 감지될 수 있음을 보여주었습니다. 여기서 두 개의 하위 피크는 감지된 스핀 상태의 모집단을 나타냅니다[21]. 현재 작업에서 우리는 스핀 분할 첫 번째 포커싱 피크의 온도 의존성을 보고하고 두 스핀 종 사이에 존재하는 스핀 갭을 기반으로 결과를 분석합니다.

<섹션 데이터-제목="방법">

메소드

현재 연구에서 연구된 장치는 GaAs/Al 0.33 계면에 형성된 고이동도 2차원 전자 가스(2DEG)로 제작되었습니다. 가 0.67 헤테로 구조로. 1.5K에서 측정된 전자 밀도(이동도)는 1.80×10 11 cm −2 (2.17×10 6 cm 2 V −1 s −1 ) 따라서 평균 자유 경로는 10 μ 이상입니다. m은 전자 전파 길이보다 훨씬 큽니다. 실험은 표준 잠금 기술을 사용하여 격자 온도가 20mK인 극저온 희석 냉장고에서 수행되었습니다. 온도 의존성 측정 범위는 20mK에서 1.8K까지였습니다.

결과 및 토론

그림 1a는 삽입된 장치를 사용하여 얻은 일반적인 집속 스펙트럼과 함께 실험 설정을 보여줍니다. 집속 장치는 주입기와 검출기를 별도로 제어하여 둘 사이의 혼선 가능성을 방지할 수 있도록 특별히 설계되었습니다[21-23]. 인젝터 및 디텍터에 사용되는 양자선은 500nm의 폭(가는 방향)과 800nm의 길이(전류 흐름 방향)를 갖는다. 인젝터와 검출기 모두 그림 1b와 같이 잘 정의된 컨덕턴스 안정기를 보여줍니다. 장치에 대한 자세한 내용은 그림 1의 캡션에 나와 있습니다.

<그림>

실험 설정 및 장치 특성. 아 인젝터와 검출기가 모두 G 0으로 설정된 횡방향 전자 포커싱의 대표적인 플롯 (2e 2 /시간). V 참조 검출기 양단의 전압 강하입니다. 포커싱 피크는 양의 자기장으로 잘 정의되며 신호는 음의 자기장에서 무시할 수 있습니다. 첫 번째 피크는 뚜렷한 분할을 보여줍니다. 두 개의 하위 피크는 피크 I 및 피크 II로 강조 표시되었습니다. 삽입은 장치의 SEM 이미지를 보여줍니다. 인젝터와 검출기 사이의 간격은 1.5 μ입니다. 중. 빨간색 사각형은 옴 접점을 형성하는 반면 두 쌍의 회색 게이트(왼쪽 및 상단)는 각각 인젝터와 검출기를 형성합니다. 스케일 바는 2 μ입니다. 중. ㄴ 인젝터와 검출기의 컨덕턴스 특성

음의 자기장에서 전자가 반대 방향으로 구부러져 검출기를 놓치기 때문에 측정된 신호는 거의 0입니다. Shubnikov-de Haas 진동과 양자 홀 효과가 관찰에 기여하지 않는다는 것도 분명합니다. 작은 양의 횡방향 자기장(B⊥ ) 전자는 주입기에서 검출기로 집중되어 B⊥에서 주기적인 포커싱 피크로 이어집니다. 감지된 신호는 음의 자기장 끝에서 무시할 수 있습니다. [23],

관계를 사용하여 60mT의 계산된 주기성 $$ B_{포커스}=\frac{\sqrt{2}\hbar k_{F}}{eL} $$ (1)

실험 결과와 잘 일치한다. 여기, e 는 기본 전하이고 \(\hbar \)는 감소된 플랑크 상수, L 는 인젝터와 검출기 사이의 간격입니다(90° 집속 장치 기하학에서 이것은 대각선 방향을 따른 간격입니다). 반고전적 전자 사이클로트론 궤도의 징후인 주기적인 포커싱 피크 외에도 홀수 번째 포커싱 피크의 분할을 주목하는 것이 흥미롭습니다. 홀수 포커싱 피크의 이러한 비정상적인 분할은 스핀-궤도 상호작용(SOI)[16, 17]에서 발생하고 GaAs 홀 가스[18, 19] 및 InSb 전자 가스[20]에서 성공적으로 관찰되었다고 제안됩니다. 우리는 최근 부분적으로 분극되고 공간적으로 분리된 1D 전자를 보유하는 더 긴 양자 와이어가 분극된 1D 전자를 2D 영역으로 주입하는 데 사용되는 n-GaAs[21]에서 홀수 포커싱 피크의 분할을 시연한 다음 후속적으로 검출기를 가로질러 측정했습니다. 첫 번째 초점 피크에서 분할 형태. 여기에서 우리는 가로 전자 포커싱을 통해 1D 채널 내의 스핀 상태에 대한 열 효과를 조사하는 데 관심이 있습니다. 열에너지 k B T 초과 2 Δ 전자(Δ E는 이론적인 예측과 일치하는 두 개의 스핀 가지 사이의 에너지 차이입니다[17].

온도 의존성 효과를 논의하기 전에 관찰된 피크 분할을 담당하는 메커니즘을 이해하는 것이 중요합니다. 그림 2a, b는 인젝터(하단 쌍)와 검출기(왼쪽 쌍)를 형성하는 분할 게이트의 전위 프로파일을 보여줍니다. SOI가 있는 경우 두 개의 스핀 종은 그림 2a와 같이 서로 다른 사이클로트론 반경을 따르므로 첫 번째 포커싱 피크에서 두 개의 하위 피크가 생성됩니다. 그러나 그림 2b와 같이 분할 게이트에 의해 생성된 정전기 전위의 경계에서 산란이 관련된 두 번째 집속 피크의 경우 상황이 다릅니다. 이 경우 스핀업 전자(색상 도표의 빨간색 화살표)는 처음에 더 작은 사이클로트론 반경을 따르지만 산란 [16, 17] 후에는 더 큰 반경을 가지며 스핀다운 전자(흰색 화살표)의 경우도 그 반대입니다. , 따라서 두 개의 스핀 종은 검출기에서 다시 결합합니다. 피크 분할에 대한 근본적인 이유는 그림 2c, d의 k-공간에서 찾을 수 있습니다. 여기에서 우리는 회전-궤도 상호작용이 Rashba 유형이라고 가정합니다. 그러나 분석은 대량의 Dresselhaus 효과에도 유효합니다. 첫 번째 포커싱 피크(그림 2c)의 경우 두 스핀 종은 (0, k y ) ~ (-k x , 0) 다른 페르미 표면을 따라. 두 번째 포커싱 피크(그림 2d)의 경우 산란 전에 동일한 주장이 적용됩니다. 그러나 산란 후 스핀 방향이 유지되는 동안 운동량은 부호를 변경합니다[16]. 따라서 초기에 내부 페르미 표면을 점유하고 있던 스핀업 전자(빨간색 화살표)는 산란 후 외부 페르미 표면으로 도약하여 운동량의 부호와 스핀 방향이 올바른 순서에 있음을 보장합니다(호핑은 다음으로 강조 표시됩니다. 그림 2d의 두꺼운 파란색 화살표 및 스핀다운 전자의 경우 그 반대. 사이클로트론 반경은 운동량에 비례하므로 2개의 페르미 표면 사이를 뛰어다니며 단일 두 번째 포커싱 피크로 이어지는 결과로 좌표 공간에서 사이클로트론 반경의 변화가 발생합니다.

<그림>

피크 분할 메커니즘. 아 , b 각각 첫 번째 및 두 번째 포커싱 피크에 대한 좌표 공간의 피크 분할. 빨간색과 흰색 화살표는 스핀업 및 스핀다운 전자를 나타내고, 색상 블록은 정전기 전위를 나타내며 빨간색 점선은 사이클로트론 반경이 더 작은 반면 노란색 점선은 사이클로트론 반경이 더 큽니다. ㄷ , d 첫 번째 및 두 번째 포커싱 피크 각각에 대한 k-공간의 피크 분할. 전자는 (0, k y에서 이동합니다. ) ~ (-k x , 0) 플롯에서 시계 반대 방향(c) ). 줄거리(d ), 두꺼운 파란색 화살표는 인젝터와 검출기 사이에 형성된 정전기 전위의 경계에서 반사 후 전이를 강조 표시합니다.

그림 3 a–c는 인젝터를 0.5G 0으로 설정한 상태에서 포커싱 결과의 온도 의존성을 보여줍니다. , G 0 및 1.8G 0 각각 격자 온도가 20mK(전자 온도는 약 70mK로 보정됨)에서 1.8K로 증가하고 그림 3d–f는 그림 3a–c의 데이터 확대를 보여줍니다. , 각각. G i용 =0.5G0 (그림 3a) 더 높은 온도에서 점차적으로 넓어지는 단일 피크가 관찰됩니다(하나의 스핀 서브밴드만 점유됨). 또한, 포커싱 피크는 스펙트럼의 중심으로 이동하고 더 높은 온도에서 대칭이 됩니다(하단 트레이스, T 참조). =1.8K, 그림 3a, d). 이것은 상대적으로 높은 온도에서 두 개의 스핀 서브밴드 사이의 가능한 전자 전이 때문일 수 있습니다. 이에 비해 G의 경우 나 =G 0 (그림 3b), 각각 스핀 상태를 나타내는 하위 피크는 20mK에서 1.2K까지 존재합니다. 그러나 두 개의 하위 피크로 이어지는 첫 번째 포커싱 피크의 딥은 1.8K에서 번집니다( 도 3b, e). G와 함께 나 1.8 G로 설정 0 (그림 3c), 분할이 잘 해결되지 않고 왼쪽 하위 피크(I)가 스펙트럼을 지배합니다. 우리는 온도가 증가함에 따라 피크 I이 점차적으로 진폭이 감소하여 1.8K에서 비대칭 첫 번째 포커싱 피크를 초래한다는 점에 주목합니다. n-형 InSb에서는 10K에서도 분할이 뚜렷했으며 이는 피크 분할은 약 60mT로, InSb[20]에서 강한 SOI를 나타내며, 이는 현재의 경우에 측정된 5.5mT의 피크 분할보다 한 차수 더 큽니다.

<그림>

TEF의 온도 의존성. 아 –ㄷ 인젝터는 0.5 G로 설정되었습니다. 0 , G 0 및 1.8G 0 , 각각. 격자 온도는 20mK(상단 트레이스)에서 1.8K(하단 트레이스)로 증가했습니다. 데이터는 명확성을 위해 수직으로 오프셋되었습니다. d -f , 데이터 확대(a )-(c )

두 개의 하위 피크가 부분적으로 겹칠 수 있음을 고려하여 피크 너비와 진폭을 정확하게 추출하기 위해 두 개의 Lorentzian 피크를 사용하여 관계식을 사용하여 그림 4a와 같이 실험 데이터를 재구성합니다.

$$ A(B) =\sum\limits_{i=1,2} A_{i} \times \frac{\gamma_{i}^{2}}{\gamma_{i}^{2}+(B -B_{i})^{2}} $$ (2) <그림>

온도 의존성 데이터 분석. 상단의 플롯은 G에 대한 것입니다. 나 =G 0 , 하단은 G용입니다. 나 =1.8 G 0 . 아 20mK에서 두 개의 Lorentzian 피크로 첫 번째 초점 피크를 재구성합니다. 파란색 실선은 실험 데이터이고, 녹색 원형 마커는 피크 I에 적합하고, 빨간색 정사각형 마커는 피크 II에 적합하고, 마젠타색 다이아몬드 마커는 재구성된 초점 피크를 강조 표시합니다. ㄴ FHWM, γ 온도의 함수로:두 경우 모두 온도가 증가함에 따라 하위 피크가 넓어집니다. 마커는 플롯(a ). ㄷ G로 측정한 편광 나 =G 0 약 0.6 % 변동 . 한편, G로 측정한 편광은 나 =1.8 G 0 기하급수적 붕괴를 따릅니다.

여기서 A i 피크 i의 진폭입니다. (나 =1, 피크 I 및 피크 II에 대해 각각 2), γ 나 반값의 전체 너비(FWHM)를 나타내며 B 나 정상의 중심이다. 피팅에서 두 가지 눈에 띄는 결과를 추출할 수 있습니다. 먼저 그림 4b에서 γ (피크 I 및 피크 II를 나타내는 트레이스와 기호에 대한 자세한 내용은 그림 4의 캡션 참조) 피크 I 및 피크 II 모두에 대해 하위 피크의 열 확장을 나타내는 인젝터 전도도에 관계없이 온도가 상승함에 따라 증가합니다. 고온에서 피크 분할. G의 피크 I은 나 =1.8G 0 다른 피크(두 피크 모두 G)에 비해 온도에 대해 상대적으로 견고합니다. 0 1.8G의 피크 II 0 ). 둘째, 측정된 스핀 분극 p \(\left (p=\left |\frac {A_{1}-A_{2}}{A1+A_{2}}\right | \right)\) 및 G 나 =G 0 약 0.6 % 변동 컨덕턴스 안정기에서의 스핀 분극은 온도에 관계없이 0으로 유지되어야 한다는 사실과 일치하는 명시적인 온도 의존성을 나타내지 않습니다(그림 4c, 상단 플롯). 반면에 G 나 1.8 G로 설정 0 , 추출된 스핀 분극은 5에서 0.8 %로 감쇠합니다. (그림 4d, 하단 플롯) 관계식 [15],

$$ p =\alpha exp\left(-\frac{k_{B} T}{\Delta E}\right) + c $$ (3)

여기서 α 진폭을 설명하는 전인자, k 나 볼츠만 상수, Δ 이 는 두 스핀 가지와 c 사이의 에너지 차이입니다. 실험의 불확실성으로 인해 발생하는 작은 잔존 가치를 설명합니다. Δ 값을 추출했습니다. 이 약 0.041 meV(0.5K에 해당)가 됩니다. 이론 [17]은 분할이 k까지 지속되어야 한다고 예측합니다. 나 티 2 Δ 초과 이 (즉, 우리의 경우 1K) 피크 분할이 최대 1.2K까지 관찰 가능하다는 우리의 결과와 합리적으로 잘 일치합니다.

결론

결론적으로, 우리는 두 스핀 상태의 기여가 첫 번째 포커싱 피크에서 두 개의 하위 피크로 나타나는 횡단 전자 포커싱의 온도 의존성을 보여주었습니다. 피크 분할은 20mK에서 1.2K까지 잘 정의되며 이 온도를 넘어서면 피크 분할이 번지는 것으로 관찰되었습니다. 더욱이, 포커싱 피크는 열 여기로 인해 두 스핀 가지 사이에 가능한 평형을 나타내는 고온에서 대칭이 되는 경향이 있습니다.

이 작업은 영국의 EPSRC(Engineering and Physical Sciences Research Council)에서 자금을 지원합니다.


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