첨단 희토류 도핑 텅스텐 전극: 우수한 용접 성능

첨단 희토류 도핑 텅스텐 전극: 우수한 용접 성능

텅스텐 전극은 불활성 가스 차폐 용접, 플라즈마 용접, 절단, 스프레이, 제련, 특수 광원에 필수적입니다. 토륨 도핑(ThO₂)과 세륨 도핑(CeO₂) 전극이 업계 표준이었지만, 방사성으로 인한 환경 및 건강 위험이 있습니다. 연구자들은 따라서 희토류 도핑 텅스텐 전극의 새로운 클래스를 개발하여 방사성 위험 없이 동등하거나 우수한 성능을 제공합니다.

이 합금은 La₂O₃ + Y₂O₃, La₂O₃ + CeO₂, Y₂O₃ + CeO₂ 같은 두 희토류 산화물 0.45~1.75wt%와 고순도 텅스텐 나머지로 구성됩니다. 총 희토류 함량은 2~2.2wt% 범위입니다.

제조 공정:

1. 선택한 희토류 질산염을 용액에 녹여 삼산화 텅스텐 분말과 혼합. 건조 후 수소 분위기에서 2회 환원(첫 번째 500~540°C, 두 번째 640~920°C)하여 미세 텅스텐 분말 생산.

2. 분말 프레싱 후 1,200±50°C에서 예비 소결. 소재를 융해 전류의 90%에서 용해 소결. 마지막으로 회전 단조와 체인 인발로 다양한 직경의 전극 제작.

이중 산화물 전략은 단일 산화물 대비 우수한 아크 안정성, 저전류 및 고전류 모두에서 감소된 소모, 더 쉬운 가공을 제공합니다.

예를 들어 란타늄 도핑 전극은 중저전류에서 우수한 아크 안정성을 보이지만 고전류에서 소모 경향이 있습니다. 이트륨 도핑 전극은 고전류에서 최소 소모로 견디지만 가공이 어렵고 저전류에서 안정성이 떨어집니다.

결론

이 개요가 새로운 희토류 도핑 텅스텐 전극의 이점을 명확히 하기를 바랍니다. 텅스텐 및 기타 내화 소재에 대한 더 깊은 통찰을 원하시면 Advanced Refractory Metals (ARM)을 방문하세요.

미국 캘리포니아주 레이크 포레스트에 본사를 둔 ARM은 내화 금속 및 합금의 글로벌 리더입니다. 고품질 텅스텐, 텅스텐 합금, 니오븀, 몰리브덴, 탄탈럼, 레늄, 티타늄, 지르코늄을 경쟁력 있는 가격에 공급합니다.