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단일 MoS₂ 격자 활용 정밀 이축 변형 센서

요약

본 논문에서는 ~1‰ 정밀도 한계 가진 평면 내 이축 변형 게이지용 신형 MoS2 기반 격자 센서 보고. MoS2 격자 5%까지 다양한 이축 변형 조건 수치 시뮬레이션. 제1원리 계산 결과 MoS2 반사율 스펙트럼 변형 민감도 격자 구조와 통합된 추가 변형 센서로 고려 가능, 평면 내 이축 변형 매핑 가능. 시제품 MoS2-격자 센서 실험 연구 추가로 격자 주기 수직 변형 성분이 격자 1차 회절 패턴 강도 피크 이동 유발 확인. 이 연구 단일 격자 소자 내 평면 내 이축 변형 센싱 새 길 열음. 우리 새 접근법 이축 변형 하 예측 가능 반사율 응답 가진 다른 소재, 2차원 단일 결정 층 형성 능력 가진 소재에도 적용 가능.

서론

유연 전자 기술 학계, 산업계 광범위 관심 받았으나 미세, 나노 규모 유연 소자 설계, 응용 동적 변위, 변형 모니터링 어려움으로 도전적[1,2,3,4,5]. 기존 저항 변형 게이지 기반 변형 검출 대부분 소형 센서 어레이 필요[4, 6, 7], 유연 전자 응용 생산 어려움. 광학 기반 2D 변형 검출 기술(예: 스페클 간섭계) 압저항 기반보다 높은 정밀도로 우월[8]. 그러나 영상 상관 측정 전략 복잡한 영상 처리 기술 요구로 도전[8,9,10]. 반사 격자 변형 측정 고해상도 제공하나 단일 소자 내 2D 변형 검출 능력 부족[11].

지난 수년간 2D 소재 엄청난 연구 노력 끌음. 그래핀 도입[12, 13] 후 2D 소재 패밀리 이중 원자층 흑린[14], 삼중 원자층 전이 금속 칼코게나이드[15], 사중 원자층 III족 금속 단칼코게나이드[16], 기타 비층상 2D 소재[17] 등 많은 새 멤버로 확대. 이 소재들 많은 흥미로운 특성 발견되어 소재 과학 스포트라이트 아래 유지[18,19,20,21,22,23,24].

전이 금속 칼코게나이드 뛰어난 광학, 기계적 특성 보임[25,26,27]. 예: MoS2 19.5%[26] 이축 변형 견디며 반사율 변조 동반[28], WSe2 변형 공학으로 주목할 만한 베리 곡률 쌍극자, 비선형 홀 효과 나타남[29]. 격자 소재 반사율 스펙트럼 변형 민감도 반사 격자 소자 기능 통합하면 변형 측정을 단일 소자 내 이축 검출로 확장 효율적 방법 될 수 있음. 그러나 반사 격자 변형 유도 소재 반사율 변조 결합 2D 변형 센싱 응용 보고 없음.

여기서 MoS2 반사율 변형 민감도 반사 격자 센서 포함 신형 평면 내 이축 변형 센싱 기술 제안. 제1원리 계산 결과 이축 변형 MoS2 기반 격자 소자 회절 패턴 강도 분포 피크 이동 유발, MoS2 반사율 변형 유도 변형에 민감하기 때문. 이 비선형 피크 이동 단축 변형 선형 방정식에 2차 항 추가로 잘 입증, 격자 주기 방향 수직 변형 성분 ~1‰ 정밀도 한계로 추출 가능. 시제품 MoS2-격자 소자 실험 연구 격자 주기 수직 변형이 격자 1차 회절 패턴 강도 피크 이동 유발 확인. 우리 연구 단일 격자 센서 원샷 평면 내 이축 변형 게이지 가능성 보임.

방법

MoS2 플레이크 이론 계산

MoS2 변형에 대한 광학 응답 모두 비엔나 압시니오 시뮬레이션 패키지(VASP)[30] 수행 제1원리 계산으로 연구. 모든 계산 전자 증강 파동(PAW) 퍼텐셜[31] 사용. 기하 완화, 정적 계산 Perdew-Burke-Ernzerhof(PBE) 일반화 기울기 근사(GGA) 방법[32] 사용. 스핀-오빗 결합(SOC)[33] 정적 계산 포함. 광학 특성 결정 위해 준입자 에너지 그린 함수 이론 유도 GW 방법[34]으로 먼저 획득. 정적 계산 파동 함수, GW 계산 준입자 에너지 베테-살페터 방정식(BSE) 계산[35] 수행 유전 상수 예측.

벌크 결정 모델 MoS2 플레이크 표현(5층 이상 적층 시 광학 특성 차이 무시 가능[36]). 최적화 계산 에너지 컷오프 400 eV, Monkhorst-Pack k-포인트 세트 15×15×4 브릴루앙 존 샘플링 사용. 격자 매개변수 먼저 최적화 후 변형 MoS2 플레이크 후속 계산 기준. 최적화 격자 매개변수 a = b = 3.18 Å, c = 13.87 Å. 기하 에너지 10–5 eV 수렴까지 완화. 선행 문헌[37] 기술 채택, 광학 계산 에너지 컷오프 300 eV, k-포인트 세트 6 × 6 × 2 사용. 정적 에너지 모든 계산 10–6 eV 수렴. 회절 패턴 헬름홀츠-키르히호프 정리[38] 기반 시뮬레이션. 추가 파일 1 상세 내용.

스펙트럼 측정용 MoS2 시료 제조

MoS2 박막 상용 MoS2 단결정(SPI Supplies)서 기계적 박리, 테이프로 폴리디메틸실록산(PDMS) 기판 전이. 전이 후 플레이크와 기판 위 또 다른 PDMS 층 제조해 접착력 강화.

유연 기판上 MoS2 격자 제조

MoS2 박막 상용 MoS2 단결정(SPI Supplies)서 기계적 박리, 테이프로 PDMS 기판 전이. 격자 소자 제조 위해 MoS2 플레이크 전자빔 리소그래피(EBL)로 격자 구조 패터닝. 패턴 시료 20 W 산소 플라즈마 식각. 최종 PMMA 세척으로 MoS2 기반 격자 소자 획득.

MoS2 소자 측정

슈퍼컨티넘 백색광원(NKT Photonics SuperK Compact) 여기 레이저 사용, 한 조리개 통과해 플레이크 시료나 격자 시료 특정 각도로 샘플 평면 상대적 조사(그림 1). 반사율 측정 시 반사 레이저 광섬유 통해 분광기 연결 수집. 분광기 측정 데이터로 다른 변형 하 반사율 스펙트럼 계산. MoS2 격자 테스트 위해 반사 레이저 백색 보드 투영, 긴 타원형 빛 반점 나타남. 빛 반점 사진 강도 분포 분석용.

단일 MoS₂ 격자 활용 정밀 이축 변형 센서

평면 내 이축 변형 게이지용 유연 기판 PDMS上 MoS2 기반 격자 센서 개략도

결과 및 토의

전통적 반사 격자 센서에서 평행 격자 스트립 주기 구조 빛 회절, 회절 이용 격자 주기 방향 방향 변형 회절 패턴 위치 이동 모니터링으로 측정[11]. 주기 구조 방향 때문에 반사 격자 변형 감지 기능 평면 내 단축 변형 게이지(주기 방향 평행)로 제한. 반사 격자 기능 평면 내 이축 변형 게이지용 확장 위해 격자 소재 고유 광학 특성, 예: 소재 반사율 변형 민감도 추가 변형 센서로 고려해 주기 방향 수직 평면 내 변형 성분 검출 제안.

MoS2 층상 구조: Mo 원자 층 두 S 원자 층 사이 샌드위치. 층간 상호작용 약한 반데르발스 힘. 여기 MoS2 플레이크 기반 반사 격자 센서 설계(그림 1) 제1원리 계산으로 다양한 평면 내 이축 변형 하 소자 회절 패턴 조사. 입사빔 파장 범위 계산 400-850 nm. 회절 격자 다음 식 설명:

$$d\left(\mathrm{sin}{\theta }_{i}-\mathrm{sin}{\theta }_{m}\right)=n\lambda$$ (1)

여기서 \(d\) 인접 격자 스트립 간 거리, \({\theta }_{i}\) 입사빔과 격자 법선 사이 각도, \({\theta }_{m}\) 회절빔 최대일 때 회절빔과 법선 사이 각도, n 회절 차수, \(\lambda\) 빔 파장[11]. 식 (1)서 다른 \(\lambda\) 입사빔 다른 \({\theta }_{m}\) 가져야 함. 따라서 연속 파장 빔 다른 \({\theta }_{m}\) 대응 연속 회절 스팟 유발, 1차 회절 패턴 타원형 형성.

그림 2a 변형 미적용 설계 격자 센서 회절 패턴 시뮬레이션 이미지. 그림 2b 다양한 이축 변형 하 소자 1차 회절 패턴 강도 피크, 패턴 위치 진화 시뮬레이션. 850 nm 입사빔 대응 1차 회절 패턴 가장자리 "LW" 라벨. 평면 내 단축 인장 변형 격자 주기 방향(\({\varepsilon }_{x}\)) 적용 시 이 변형 각 스트립 간 간격 d 증가 유도. 결과적 주어진 \(\lambda\) 고정 \({\theta }_{i}\) 대해 \(d\mathrm{sin}{\theta }_{m}\) 상수이므로 \({\theta }_{m}\) 감소. 따라서 변형 \({\varepsilon }_{x}\) 0-4.3% 점진적 증가 시 1차 회절 패턴 각 점 위치 해당 빔 파장 비례 관계로 0차 회절 스팟 중심 쪽으로 이동, 전통적 반사 격자 센서 기능[11]과 일치.

단일 MoS₂ 격자 활용 정밀 이축 변형 센서

a 시뮬레이션 회절 패턴 이미지. 변형 미적용. 강도 색상 표현. 우리 시뮬레이션 스크린 반사 방향 수직 아닌 격자 평행 설정으로 0차 빔 양쪽 1차 회절 스팟 비대칭 거동. b 다양한 이축 변형 하 1차 회절 스팟 시뮬레이션 진화. 강도 편미분 색상 표현. 가로, 세로 좌표 0차 회절 스팟 중심 상대 위치. 피크 점선 표시. 좌→우 \({\varepsilon }_{x}\) 0%, 0.9%, 2.6%, 4.3% 설정. 상→하 \({\varepsilon }_{y}\) 0%, 1%, 3%, 5% 설정

더 긴 파장 \(\lambda\) 입사빔 더 큰 \({\theta }_{m}\) 변이 가져 LW 가장자리 가장 명백한 위치 이동. 그러나 평면 내 인장 변형 격자 주기 방향 수직(\({\varepsilon }_{y}\)) 동시에 적용 시 1차 회절 패턴 내 강도 피크 이동 관찰, 그림 2b 점선 표시. 변형 \({\varepsilon }_{y}\) 0-5% 증가 시 강도 피크 0차 회절 스팟 중심서 더 멀어짐. 이 강도 분포 피크 이동 변형 유도 MoS2 반사율 변조 기인. 선행 문헌 외부 변형으로 MoS2 반사율 스펙트럼 조절 가능 보고[28], 반사율 반사 격자 회절빔 입사빔 강도 비율과 동일. 따라서 MoS2 격자 회절 다른 파장 빔 강도 평면 내 변형으로 변조 가능. 한편 LW 가장자리 위치 이동 없음 \({\varepsilon }_{y}\) 격자 주기 영향 없기 때문.

그림 3a MoS2 격자 벡터 \({\varvec{b}}\) 방향 단축 인장 변형 적용 시 반사율 스펙트럼 피크 이동 선형 거동. 이 단축 인장 변형 MoS2 반사율 피크 위치 적색 이동 유발. 그러나 평면 내 이축 인장 변형 적용 시 반사율 피크 위치 이동 비선형 변조. 반사율 스펙트럼 피크 위치와 평면 내 이축 인장 변형 관계 2차 방정식으로 기술:

단일 MoS₂ 격자 활용 정밀 이축 변형 센서

a 다른 단축 변형 하 파장 함수 MoS2 플레이크 반사율 스펙트럼. b 다른 이축 변형 하 MoS2 플레이크 반사율 스펙트럼 피크 위치. 점선 피팅 곡선. 인셋: 피팅 방정식 피크 위치 매핑 이미지

$$\mathrm{Peak position}=l\left({\varepsilon }_{a}+{\varepsilon }_{b}\right)+m{\varepsilon }_{a}{\varepsilon }_{b}+n$$ (2)

여기서 l, m, n 세 상수, εa, εb MoS2 두 격자 벡터 방향 변형 성분. 제1항 격자 벡터 \({\varvec{a}}\) 또는 \({\varvec{b}}\) 방향 단축 인장 변형 하 피크 위치 이동 선형 거동 기술. 제2항 이축 인장 변형 상황 고차 거동 기술. 제3항 무변형 MoS2 반사율 피크 위치. MoS2 격자 벡터 \({\varvec{a}}\), \({\varvec{b}}\) 대칭 등가이므로 두 방향 인장 변형 같은 기여 인자. 피팅 결과 피팅 곡선과 제1원리 계산 피크 위치 최고 차이 1.76 nm, 반사율 피크 위치 Eq. (2) 이용해 변형 계산 시 ~1‰ 변형 게이지 정밀도 한계 획득 가능 나타냄. 그림 3b 피팅 Eq. (2) 얻어진 다른 평면 내 이축 인장 변형 하 반사율 피크 위치 매핑 이미지(상세 반사율 플롯 추가 파일 1 참조).

우리 시뮬레이션 격자 벡터 \({\varvec{a}}\) 시뮬레이션 격자 주기 방향 수직. 따라서 변형 \({\varepsilon }_{y}\) = \({\varepsilon }_{a}\), 변형 \({\varepsilon }_{x}\) = \(\sqrt{3}/2\times {\varepsilon }_{b}\). 우리 계산 MoS2 기반 격자 센서서 평면 내 변형 \({\varepsilon }_{x}\) 1차 회절 패턴 LW 가장자리 위치 이동으로 측정 가능 밝혀. 1차 회절 패턴 강도 피크 이동 기반 2차 Eq. (2) 이용해 변형 \({\varepsilon }_{x}\) 기여 피크 이동서 감산. 그 후 평면 내 변형 \({\varepsilon }_{y}\) 정량 계산 가능.

MoS2 반사율 변형 민감도 추가 실험 연구 위해 기계적 박리 MoS2 플레이크(수십 나노미터 두께; 추가 파일 1 상세) 건식 전이법으로 유연 기판 폴리디메틸실록산(PDMS) 부착(그림 4a 인셋). 이 제조 MoS2 소자 기판 양쪽 두 이동 스테이지 고정 기판 늘려 평면 내 단축 인장 변형 가함. 기판 두 클립 사이 길이 \(L\), 길이 변화 \(\delta L\)로 ε\(=\delta L/L\) 계산해 평면 내 단축 인장 변형 추정. 변형 0-4% 변화 시 MoS2 반사율 스펙트럼 피크 위치 적색 이동, 이동 크기 이론 계산과 잘 일치(그림 4a). 그림 4b, c PDMS 유연 기판上 2 μm 주기 MoS2 기반 반사 격자 센서 광학 이미지 전자빔 리소그래피 제조(방법 상세). PDMS 기판 늘려 MoS2 기반 격자 소자 격자 주기 방향 수직 평면 내 인장 변형 가함(그림 4d). 1차 회절 패턴 강도 분포 모니터링 시 격자 주기 방향 수직 4% 평면 내 인장 변형 도입 시 비변형 경우 대비 강도 피크 0차 스팟 중심서 더 멀어짐 관찰(그림 4e). 회절 패턴 위치 이동 없음 인장 변형 주기 방향 수직, 각 스트립 간 간격 d 거의 변화 없기 때문.

단일 MoS₂ 격자 활용 정밀 이축 변형 센서

a 단축 변형 반사율 스펙트럼 실험 결과(위), 단축 변형 제1원리 계산 반사율 스펙트럼(아래). 화살표 반사율 피크 위치 지시. 인셋, 반사율 스펙트럼 테스트용 MoS2 플레이크 광학 이미지. b~c PDMS上 제조 MoS2 기반 격자 광학 이미지. d 이동 스테이지로 늘려진 MoS2 기반 격자 개략도. e 비변형(위), 변형(아래) 격자 1차 회절 스팟 이미지. 흰 화살표 강도 피크 지시

결론

요약하면 MoS2 기반 반사 격자 센서 사용 평면 내 이축 변형 게이지 신기술 입증. 5%까지 다양한 이축 변형 격자 수치 시뮬레이션으로 개념 테스트. 이 새 기술에서 주기 방향 변형 성분(\({\varepsilon }_{x}\)) 검출 격자 구조와 MoS2 반사율 변형 민감도 추가 센서 역할 결합해 주기 방향 수직 평면 내 변형 성분(\({\varepsilon }_{y}\)) 획득. 성분 \({\varepsilon }_{y}\) 2차 근사 방정식과 1차 회절 패턴 내 강도 피크 이동으로 계산. 이론 결과 실험 잘 지지. 우리 연구 유연 격자 센서 설계 길 열고 단일 격자 센서 원샷 평면 내 이축 변형 게이지 실현 새 접근법 제공. 우리 접근법 이축 변형 하 예측 가능 반사율 응답, 2차원 단일 결정 층 형성 능력 가진 다른 소재에도 적용 가능.

데이터 및 재료 가용성

현재 연구 사용, 분석된 데이터세트 합리적 요청 시 교신 저자 이용 가능.

약어

2D:
이차원 (Two-dimensional)
VASP:
비엔나 압시니오 시뮬레이션 패키지 (Vienna Ab-initio Simulation Package)
PAW:
전자 증강 파동 (All-electron projector augmented wave)
PBE:
페르데-버크-에른체르호프 (Perdew–Burke–Ernzerhof)
GGA:
일반화 기울기 근사 (Generalized gradient approximation)
SOC:
스핀-오빗 결합 (Spin–orbit coupling)
BSE:
베테-살페터 방정식 (Bethe–Salpeter equation)
PDMS:
폴리디메틸실록산 (Polydimethylsiloxane)
EBL:
전자빔 리소그래피 (Electron beam lithography)

나노물질

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