첨단 배가스 정화 솔루션: 청정 대기를 위한 기술 및 시스템
배가스 정화 기술 및 시스템
환경 오염은 현재 전 세계가 직면한 최대 문제 중 하나입니다. 일련의 지구적 환경 문제를 통해 점점 더 많은 사람들이 환경과 자원이 인류 생존과 발전의 기본 전제임을 깨닫게 되었습니다. 대부분의 기술 공정에서 발생하는 배가스는 다양한 고체 입자로 오염되어 있습니다. 이 가스들을 추가 활용(충분한 발열량 보유 시)하거나 대기로 방출하기 위해서는 정화가 필수적입니다. 그러나 대기 배출 규제에는 비용이 들며, 운영 조직에 재정적 보상은 거의 없습니다.
지난 몇 년간 배출 규제 분야에서 태도, 교육, 책임, 규정이 완전히 바뀌었습니다. 배출 규제는 미래 세대를 대기 오염의 폐해로부터 보호하기 위해 갈수록 강화되고 있습니다. 이제 여러 조직이 대기 오염에 대한 태도를 적극적으로 바꾸고 오염 방지 활동에 선제적으로 참여하고 있습니다. 조직은 대중에게 '청정' 제품을 생산하는 책임 있는 조직으로 비치고자 합니다. 이는 시장이 점점 더 '청정' 제품을 요구하기 때문이기도 합니다. 오늘날 고객은 환경에 대한 책임과 청정 환경의 혜택 모두에 대해 더 교육받고 있습니다.
배가스 정화 시스템의 목적
배가스 정화 시스템의 목적은 환경과 건강에 유해한 물질의 대기 배출을 저감하는 것입니다. 예: 중금속, 다이옥신, 산성화·부영양화 유발 물질. 배가스 내 일부 물질이 독성과 발암성을 가지므로 배출 저감이 중요합니다. 황산화물과 질소산화물 제거로 산림과 호수의 산성화가 크게 줄어들었습니다.
배가스 발생 특성
야금, 화학, 화력발전소의 기술 공정에서 고온·고농도 분진 함유 배가스가 발생합니다. 조성과 양은 공정 특성과 원료에 따라 달라집니다. 배가스 배출은 사용 원료와 공정 내 반응의 결과입니다. 배가스에는 이산화탄소, 일산화탄소, 황산화물(SO₂, SO₃), 질소산화물(NOx), 수소, 황화수소(H₂S), 불화수소산(HF), 염화수소산(HCl), 비소, 수은, 휘발성 유기화합물(VOC), 수증기, 분진 등이 포함됩니다. 수증기는 무해하나 굴뚝 출구에서 보이는 플룸(plume) 형성에 기여합니다.
오염 방지 설비의 필요성 확대
고온 공정이 많고 미분 원료를 다루는 공정이 많아 모든 공정이 오염 가스와 입자상 물질을 대기 배출할 가능성이 있습니다. 이는 플랜트 주변 대기 질에 영향을 미칩니다. 대기 질 개선과 보호를 위해 다양한 오염 방지 장치가 배출 저감에 사용됩니다.
과거에는 오염물질 양이 매우 많거나 독성이 강한 공정, 회수 가치가 있는 공정에만 오염 방지 설비를 설치했습니다. 하지만 현재는 환경 규제 강화와 사회적 환경 관심 증대로 모든 기술 공정의 배출을 검토하고 최소 수준으로 저감하는 설비 설치가 필수가 되었습니다.
가스 정화 기술의 5대 그룹
기술 공정에 기인하는 대기 오염원은 최소 5대 그룹으로 나뉘며, 각 그룹별 최적 가용 기술(BAT)이 존재합니다. (강산성 가스 고농도 시 황산 플랜트 등 대체 기술 필요). 5대 그룹: (i) 분진·입자상 물질 배출 제어, (ii) 산성 가스(SO₂/HCl/HF) 제어, (iii) NOx 저감 제어, (iv) 산성 미스트·기타 에어로졸 제어, (v) 수은, 다이옥신/퓨란, VOC 제어. 산성 가스 고정 기술에서는 생성물 처분이 항상 과제이며, 대부분 매립합니다. 이 5개 그룹의 배출 제어 설비는 기본적으로 (i) 분진·입자상 물질 제어 설비, (ii) 기체상 오염물질 제어 설비 2가지로 나뉩니다. 본문은 분진·입자상 물질 제어 시스템에 집중합니다.
고온 가스 정화의 난제
고온 가스 정화는 산업계에서 가장 당혹스러운 문제입니다. 700~1,500℃(때론 더 높음) 고온 가스에 극미세 입자가 분산된 상태에서 처리해야 하기 때문입니다. 미세 에어로졸과 고온으로 통상적 접근법이 통하지 않으며, 이 분야 진전은 더뎠습니다. 기본 난제는 경제성과 정화 근본 요건입니다.
일부 경우 폐가스 정화는 고부가가치 물질 회수이거나, 입자 제거 후 잔류 가스가 연소성이라 열/에너지 회수 가능합니다. 다른 경우 배출물의 경제적 가치가 미미해 처리 비용이 큰 문제가 됩니다. 이때 정화는 지역 사회 대기 오염과 재산·공중 피해 예방을 위한 것으로, 좋은 대외 이미지 외 가시적 수익이 없습니다. 업계는 생산비 증가 없이 최소 비용으로 정화를 원합니다.
불순물 다양성으로 효과적 정화는 심각한 기술적 문제를 안고 있습니다. 고효율 가스 정화 시스템은 고온 야금·화력 플랜트 신뢰 운전과 장수명 캠페인, 오염 규제 기준 준수에 필수적입니다. 가스 냉각·정화 플랜트 선정은 기술적 타당성, 경제적 수용성, 환경적 적합성이 중요합니다. 가스 정화 시스템은 최고 수준의 정화 효율, 안전성, 신뢰성, 환경 보호를 위해 설계되어야 합니다.
가스 정화 시스템 설계 중요 기준
- 가스 유량(Nm³/hr)
- 가스 화학 조성
- 가스 수분 함량
- 가스 온도
- 분진 함량(kg/hr)
- 분진 특성(부식성, 마모성 등)
- 입자 크기 분포
- 배출 기준
- 가스 폭발 특성
- 위생적 설계
- 온라인/오프라인 시스템
- 건설 자재
가스 정화 시스템 설계 3대 고려사항
- 후드(hood) 설계: 분진·가스 포집, 작업장 연기 충만 방지
- 포집된 가스·분진 정화 후 대기 방출
- 포집 분진 재비산·재유입 없이 처리·처분
배가스 냉각 방법
야금로 배가스는 고온(700~1,500℃ 이상)과 고분진 함량을 가지므로, 가스 정화 시스템 처리 전 400℃ 이하로 냉각 필요. 실용적 냉각 방법 4가지:
- 폐열 보일러
- 공기 간접 냉각
- 물 간접 냉각
- 물 증발 냉각
폐열 보일러
연속적 가스 유량을 가진 공정의 배가스 냉각에 주로 사용. 연속 유량 조건에서 좋은 운전 결과 도출.
공기 간접 냉각
실제 적용 드묾. 단점: (i) 냉각 공기 온도가 공정 가스 이슬점 이하→냉각기 벽면 산 응축·부식, (ii) 점착성 분진으로 퇴적·막힘 위험, (iii) 고온(>550℃) 체류 시간 길어 추가 SO₃ 생성·이슬점 상승, (iv) 가스 유량 변동 시 출구 온도 제어 어려움.
물 간접 냉각
자주 사용. 배가스 덕트 둘레에 냉각수 관 설치. 관 크기와 수압·유량 설계로 가열수 온도 항상 증발점 이하 유지. 증기 미발생·증기 취급 규제 회피 장점. 단점: 설비 대형화, 대량 냉각수 처리 필요.
물 증발 냉각
유량 변동 가스 냉각에 폐열 보일러·공기 간접 냉각 대안으로 적합. 현대식은 2성분 노즐(물+압축공기) 사용해 유연한 운전과 출구 온도 정밀 제어 가능. 과도한 온도 강하로 인한 산성 미스트 응축→분진 습윤·습성 퇴적·부식 방지에 중요.
장점: (i) 고온(>550℃) 상류 체류 시간 단축으로 미립 금속 화합물 촉매 작용에 의한 추가 SO₃ 생성 억제, (ii) 하류 SO₃ 생성 억제, (iii) 물 조절로 전기집진기(ESP) 성능 향상, (iv) 가이드 베인 등 내부 구조물 불필요.
가스 정화 장치 분류
오늘날 약 40종 가스 정화 장치가 있으며, 공통 특성 기준 5대 유형으로 그룹화: (i) 미스트 제거기, (ii) 분진 포집기(더스트 캐처)·사이클론, (iii) 습식 집진기, (iv) 필터, (v) 전기집진기(ESP). 건식 분진 분리 기술과 습식 분진 분리 기술로도 구분. 건식 기술에서도 공정 요건에 따라 물 조절(조절탑에서 질소와 물 주입→150μm 물안개 생성, 체류 시간 조절로 출구 전 증발) 필요할 수 있음.
입자 제거 장치 작동 원리
입자 함유 가스 스트림을 입자가 외부 힘 작용을 받거나 장애물과 충돌해 가스 스트림에서 분리되는 영역으로 통과시킵니다. 외부 힘 작용 시 입자는 가스 흐름과 다른 방향 속도 성분 획득. 외부 힘 기반 분리 장치 설계 시 입자 운동 계산 필수.
입자상 배출 제어 시스템 예비 선정 기준
다음 4가지 정보 기반: (i) 정화 대상 스트림 입자 농도, (ii) 제거 대상 입자 크기 분포, (iii) 가스 유량, (iv) 최종 허용 입자 배출률. 요구 효율·유량 충족 시스템 선정 후 총 건설·운영비 기준으로 최종 선정. 집진기 크기(비용)는 처리 가스 체적 유량에 정비례. 운영비 영향 인자: 장치 압력 강하, 필요 동력, 물 사용량(습식 스크러버 경우).
입자 제거 장치 물리적 메커니즘:
- 침강(Sedimentation): 입자 함유 가스를 챔버로 유입→중력으로 입자 바닥 침강. 침강실(settling chamber)류.
- 전기장 내 대전 입자 이동: 입자 대전 후 전기장 가해 정전기력으로 장치 표면 이동·포집. 전기집진기(ESP).
- 관성 퇴적(Inertial Deposition): 가스 흐름 방향 전환 시 입자 관성으로 직진 경향→장애물 충돌 포집. 사이클론, 스크러버, 필터.
- 브라운 확산(Brownian Diffusion): 기체 내 입자 브라운 운동(무작위 운동). 장애물 주변 흐름 시 무작위 운동으로 입자 장애물 접촉·부착 포집. 작은 입자일수록 브라운 운동 현저→확산 기반 장치가 미세 입자 제거에 효과적.
장치 선택 핵심 파라미터는 입자 직경 'Dp'. 물리적 메커니즘 효과는 입자 크기에 따라 크게 달라짐→입자 제거 장치 효율은 입자 크기 함수.
직경 Dp 입자에 대한 장치 포집 효율 N(Dp) = 1 - (출구 단위체적당 Dp 입자 수)/(입구 단위체적당 Dp 입자 수). 입자 수 기준 전체 효율 N = 1 - (출구 단위체적당 총 입자 수)/(입구 단위체적당 총 입자 수). 장치 입구/출구 측 입자 크기 분포 함수로 표현 가능.
입자상 제어 설비 분류
최소 설비: 침강실(settling chamber). 큰 챔버에서 가스 유속 낮춰 중력 침강. 사이클론: 가스 전체를 테이퍼관 내 나선 흐름→원심력으로 입자 외벽 이동·포집→중력으로 하강·제거. 정화 가스 상부 배출.
ESP: 대전 입자에 전기장 내 정전기력 가해 가스 스트림서 분리. 고전압으로 두 전극 간 전기장 형성, 입자 대전→반대 대전 플레이트 이동·포집, 정화 가스 통과. 주기적 래핑(rapping)으로 플레이트 먼지층 털어냄.
필터: 입자 함유 가스를 섬유·필터 매트 등 집진 요소 집합체 강제 통과→입자 포집.
습식 집진기(스크러버): 물방울과 입자 충돌→큰 물방울로 쉽게 기체서 분리. 기체 오염물질 동시 제거 가능.
기계식 집진기(침강실, 사이클론)는 타 설비보다 훨씬 저렴하나 제거 효율 보통. 큰 입자 제거에 유리해 고농도 분진에서 고효율 최종 제어 장치 전처리기(프리클리너)로 자주 사용. ESP: 대유량 가스 저압력 강하 고제거 효율 처리 가능. 고가, 공정 운전 조건 변화에 경직적. 여과포 필터(백필터): 초고효율이나 고가, 건조·저온 조건 제한. 스크러버: 고효율, 기체 오염물질 동시 제거 부가 장점. 고압력 강하·습성 슬러지 발생·처리·처분 필요로 운영비 고가.
침강실(Settling Chamber)
중력 침강은 입자 분리 가장 직관적 수단. 수평 챔버로 입자 함유 가스 통과→분진 바닥 침강. 원리는 큰 박스에서 배기 가스 흐르고 입자 중력 침강. 침강실 가스 유속은 침강 입자 재비산 안 되게 충분히 낮게 유지. 덕트 확장해 충분히 큰 챔버로 유속 저감. 원리상 최소 입자도 제거 가능하나 길이 실용적 한계로 ~50μm 이상 입자 제거에 한정. 타 집진 장치 전 프리클리너로 대형·마모성 입자 사전 제거용으로 주로 사용.
장점: (i) 간단 구조·저비용, (ii) 낮은 압력 강하, (iii) 물 불필요. 단점: 넓은 공간 필요. 사실 챔버 내 근접 수평판 다수 설치 가능→입자 침강 거리가 전체 장치 높이보다 훨씬 짧게 설계 가능.
침강실 성능 분석: 유동 유형
장치 내 가스 유동 특성이 핵심. 3가지 이상적 유동 상황: (i) 층류, (ii) 플러그 유동(단면 균일 속도)·입자 수직 혼합 없음, (iii) 플러그 유동·완전 수직 혼합.
- 층류: 포물선형 속도 프로파일. 천이 레이놀즈 수 미만에서만 실현. 높이 h 위 입자 침강 시간 h/V(V=침강 속도). 수직 혼합 없음. 브라운 운동 효과는 정상 침강 하향 운동 대비 무시.
- 플러그 유동·무수직 혼합: 층류 근사. 수직 혼합 무시, 평탄 속도 프로파일 가정, 모든 입자 자자 침강 속도로 침강. 입구 단면 균일 분포 가정. 임계 높이 h* 정의: h≤h* 입자 포집, h>h* 입자 탈출.
- 플러그 유동·완전 수직 혼합(난류): 난류 혼합으로 챔버 내 가스 속도 균일. 코어부 난류 혼합이 입자 침강 경향 압도→챔버 높이 방향 균일 입자 농도 유지. 바닥 얇은 층에서만 침강 제거 가정. 직사각 채널 레이놀즈 수 >4,000 시 난류 가정.
사이클론 분리기(Cyclone Separator)
회전 가스 스트림 원심력으로 입자 분리. 표준 접선 유입 수직 역류형 사이클론(Fig 2). 가스는 사이클론 곡면 기하 따라 흐르고, 입자 관성으로 외벽 이동·충돌·포집. 질량 m, 반경 r, 접선 속도 vA 입자 원심력 = m(vA)²/r. vA=10m/s, r=0.5m 시 중력 20.4배. 사이클론 기하로 중력 침강 대비 현저히 강화된 힘 달성 가능.
사이클론 내 입자 회전 가스 스트림 따라 흐르며 점진적 외벽 접근. 가스 스트림 여러 완전 회전 가능(Fig 2). 설계 시 주어진 유량, 내외부 반경, 사이클론 본체 길이로 목표 입자 크기 포집 효율 달성. 본체 길이는 유량 통해 가스 스트림 회전 수와 연관→목표 효율 달성 필요 회전 수 계산이 설계 주안점.
사이클론 설계 유형
회전 운동 부여 방식 따라 다양: (i) 역류형 사이클론(접선 유입, 축 유입), (ii) 직통류형 사이클론, (iii) 임펠러 집진기.
Fig 2: 접선 유입 역류형. 더러운 가스 상부 유입→접선 진입으로 회전 운동. 원심력→외벽 강제→중력 하강. 하부에서 가스 흐름 역전→내부 코어 형성→상부 배출. 축 유입 역류형: 축 방향으로 유입, 상부 고정 베인으로 원심 운동 부여.
직통류형: 내부 볼텍스 하부 배출(방향 역전 안 함), 상부 베인으로 초기 원심 운동 부여. 저압력 강하·고유량 장점. 대형 입자 제거용 프리클리너로 자주 사용.
임펠러 집진기: 가스 다날개 임펠러 수직 진입→임펠러 둘레로 휩쓸림, 입자 원심력→외곽 환형 슬롯 투입. 콤팩트함 장점. 단점: 사이클론 내 고형물 축적 막힘 경향.
사이클론은 금속·세라믹 등 어떤 재질로도 제작 가능. 고온, 마모성 입자, 부식성 분위기 견딤. 내부 표면 매끄러워야 포집 입자 호퍼로 원활 하강. 무빙 파트 없음→운전 단순, 유지보수 상대적 자유. 저투자비·무유지보수로 ESP 등 고효율 최종 제어 장치 프리클리너로 이상적. 기존 사이클론은 저효율 집진기로 알려졌으나, 최신 제품은 5μm 초과 입자 98% 이상 효율 달성. 통상 15~20μm 초과 입자 90% 효율 루틴 달성.
사이클론 효율 영향 인자
Fig 3: 수평면 상 회전 가스 스트림 r3에서 접선 진입 입자 고려. 원심력 m(vA)²/r로 유선 횡단 외향 경로. 속도 벡터: 접선(vA), 반경(Vr), 축(vZ).
소위 '층류 사이클론'은 층류 침강실 의미 층류 아님. 마찰 없는 유동으로 유선이 사이클론 윤곽 따름(Fig 3). 난류 사이클론 모델(Fig 3): 난류 혼합으로 입자 농도 사이클론 횡단 균일 가정, 난류 침강실과 유사하게 외벽 얇은 층에서 제거 발생.
효율 증가 인자: (i) 입자 크기, (ii) 입자 밀도, (iii) 유입 가스 속도, (iv) 사이클론 본체 길이, (v) 가스 회전 수, (vi) 벽면 매끄러움. 효율 감소 인자: (i) 사이클론 직경, (ii) 가스 출구 덕트 직경, (iii) 가스 유입구 면적. 치수 비 고정 시 직경 감소→효율 증가. 설계는 포집 효율, 압력 강하, 크기 간 타협. 고효율→고압력 강하(고유입 속도), 대형화(본체 길이). 접선 유입 역류형 사이클론 치수 명세(Fig 4).
효율 외 주요 고려사항: 압력 강하. 고속→고효율이나 압력 강하 증가→에너지 입력 증가→효율과 운영비 간 경제적 트레이드오프. 사이클론 압력 강하 통상 250~4,000Pa.
전기집진기(Electrostatic Precipitator, ESP)
가장 널리 쓰이는 입자상 제어 장치 중 하나. 다양한 크기 적용. ESP 챔버: 방전 전극, 집진 전극 2개 전극. 전극 사이 가스에 자유 전자, 이온, 대전 입자 존재. 공간 전하 밀도 기여종: 이온, 전자, 대전 입자. 가스 분자 자유 전자 모두 포획→이온과 대전 입자만 공간 전하 밀도 기여. 실제 이온 전류가 전기장 방향(충전 전극과 동극성 이온→집진 전극 이동)으로 흐름. 이온은 챔버 내 난류 영향받지 않을 충분한 속도로 집진 전극 이동.
기본 작동 원리
입자 대전→입자 함유 가스 흐름 영역에 전기장 부과→입자에 인력 작용→직각 방향 반대 대전 전극 이동·포집. ESP는 기계적 분리법(사이클론 등)과 달리 외부 힘을 개별 입자에 직접 가함(가스 스트림 전체 간접 가함 아님). 입자 전극 포집. 액체면 중력 하강·하부 제거. 고체면 주기적 래핑으로 층 제거.
입자 대전 메커니즘
고전압 전극(가는 와이어) 주변 코로나 방전으로 이온 생성→입자 대전. 코로나는 능동 고전압 전극(와이어)과 수동 접지 전극(플레이트/파이프) 사이 형성. 코로나 이온이 집진 전극 이동 중 입자 충돌·대전. 가스 분자 이온이 최소 입자보다 수십 배 작고 수 많음→거의 모든 입자 대전. 대전 입자 정전 인력으로 집진 전극 이동·유지. 입자층 두꺼워지며 전극 표면층 형성. 전하 서서히 입자→전극 방전. 층 성장 시 최근 포집 입자 전하 기포집 층 통해 전도. 먼지층 저항 = 먼지 비저항(dust resistivity).
입자층 두꺼워지면 플레이트 인접 입자 대부분 전하 상실→전기적 인력 약화. 단, 새로 도착한 외부 층 입자는 완전 전하 보유. 입자 절연층으로 새 입자 전하 즉시 상실 안 됨→전체 층 전극 고정. 최종 래핑으로 층 파쇄·호퍼 낙하. ESP는 가스 체적 처리량 클 때 주로 채택.
코로나 방전과 입자 대전
ESP 입자 대전 메커니즘: 코로나로 이온 생성→입자 부착. 코로나 양성/음성 가능. 기체 정상 상태: 소량 자유 전자, 동수 양이온. 두 전극 사이 기체 배치 시 자유 전자→양전극, 양이온→음전극 이동으로 미약 전류.
- 양성 코로나: 원통형 ESP 와이어(Fig 4) 양전위. 자유 전자→와이어 이동. 와이어 접근 시 인력 증가→에너지 상승. 기체 분자 충돌→전자 방출→자유 전자 2개+양이온 1개 생성. 연쇄 반응 '전자 눈사태(electron avalanche)'. 양이온→음전극 이동 중 입자 충돌·부착→입자 양대전. '코로나' 용어: 전자 눈사태 동반 발광 유래. 입자 양대전.
- 음성 코로나: 방전 전극 음전위. 전자 눈사태 와이어 외표면→반경 바깥 방향 시작. 와이어 근접 전자 충분히 에너지→기체 분자 충돌 양이온 생성→전자 눈사태 개시. 양이온 단거리 와이어 이동. 전자 바깥 낮은 전기장 영역 이동→기체 분자 충돌 감속. 양성 코로나 가속 전자보다 낮은 에너지. 저에너지 전자 기체 분자 충돌 시 전자 방출 대신 흡수→음이온 생성. 음이온 생성(코로나 외곽)에서 전자 눈사태 자유 전자 대부분 흡수. 음이온→양전극 이동 중 기체 분자 부착→음이온 생성. 음성 코로나 유효 조건: 기체 분자 자유 전자 흡수→음이온 생성 가능. 배가스 중 SO₂ 최우수 전자 흡수 기체. O₂, CO₂, H₂O도 효과적. 음성 코로나 양성보다 안정적→산업용 선호. 부산물: 오존(O₃) 생성. 양성 코로나 전자 흡수 기체 불필요.
먼지층 비저항과 성능
ESP 운전 중 집진 전극 포집물 층 형성. 집진면 입자 퇴적물은 코로나 이온 전류 접지 전도 위해 최소 전기 전도도 필요. 최소 전도도 ~10⁻¹⁰/Ω·cm(비저항 10¹⁰ Ω·cm). 일반 금속보다 훨씬 낮으나 실리카·플라스틱 등 양호 절연체보다 훨씬 높음. 비저항: 알려진 두께 시료 전류 흐름으로 측정.
포집 먼지층 비저항 ~10¹⁰ Ω·cm 미만 시 층 전하 전극 양도. 상온 일반 먼지 비저항 ~10⁸ Ω·cm(입자 표면 수분층 때문). 100℃ 초과 온도 상승 시 수분 증발→포집 고체 고유 비저항 값으로 상승. 층 비저항 ~10¹⁰ Ω·cm 초과 시 층 양단 전위 상승→ESP 유지 전압 감소→포집 효율 저하. 포집 입자상 물질 전기 비저항은 화학 조성, 가스 성분, 온도 의존.
입자 대전량 예측
ESP 입자 대전: 전극 사이 가스 공간서 코로나 생성 이온이 입자 폭격·부착. 가스 이온 농도 최대 10¹⁵ ions/m³. 입자 대전량: 가스 이온 농도, 전기장 강도, 입자 전도성, 입자 크기 의존. 1μm 입자 ~300 전자 전하, 10μm 입자 ~30,000 전자 전하 획득. 입자 대전량 예측→이동 속도 예측→주어진 운전 조건 포집 효율 계산 필수.
ESP 입자 대전 2가지 메커니즘:
- 전장 대전(Field Charging / Ion Bombardment): 집진 전극 이동 중 이온이 입자 만나 부착. 이온 전기력선(전기장 벡터 접선 곡선) 따라 이동. 미대전 입자 최초 진입 시 전기력선 입자 향해 편향→정상 경로보다 더 많은 이온 포집. 입자 대전 진행 시 이온 입자 반발→대전율 저하. 최종 포화 전하 도달→대전 중단.
- 확산 대전(Diffusion Charging): 이온 열적 무작위 운동(브라운 운동)으로 입자 충돌·전하 양도. 비대전 증기 분자 입자 표면 확산 메커니즘과 동일. 단, 입자·이온 모두 대전→입자 부근 이온 무작위 운동에 정전기력 영향. 입자 대전 증가 시 이온 입자서 멀어지는 경향. 입자 총 이온 플럭스 = 무작위 확산 운동 + 전기적 이동.
두 이론 모두 복잡·광범위 연구 대상. 엄밀히 말하면 입자 ESP 진입 순간부터 전장·확산 대전 동시 발생→전체 대전량 예측 위해 두 메커니즘 동시 고려 필요. 하지만 확산 대전 ~1μm 미만 입자 우세, 전장 대전 ~1μm 초과 입자 우세→ESP 설계서 독립 발생 가정 빈번. 입자 총 전하 = 각 메커니즘 전하 합으로 추정.
기체 스트림 입자 여과(Filtration)
주요 입자상 대기오염 방지 장치류: 기체 스트림 입자 여과 기반. 다양한 여과 매체: 섬유층, 충진층, 직물. 공기 중 입자 포집용 섬유층 통상 희소 충진(층 부피 ~10%만 섬유). 충진층 필터: 고체 충진물(통상 튜브 내)→섬유 필터보다 높은 충진 밀도. 섬유·충진층 환기 시스템 널리 사용. 직물 필터(백필터): 분진 가스 직물 백 통과→입자 직물 축적. 산업 가스 고형 입자 제거용 빈번 사용.
여과 메커니즘
여과 방식 따라 물리적 메커니즘 달라짐. 통상 희소 충진 섬유층: 실린더 집합체로 모델링. 특성적 섬유 간격 ≫ 포집 입자 크기→단순 체거름(섬유 간 공극 포집) 아님. 기체→단일 집진 요소 표면 입자 수송으로 제거. 섬유층 여과 메커니즘 단일 집진기 기준 분석 가능→이론적 상세 기술 가능.
충진층 필터: 상호작용하나 본질적 별개 구형 집진기 집합체로 모델링 가능. 단, 충진 요소 근접→접근 타당성 의문. 높은 충진 밀도로 입자 포집 과정 이론적 기술 어려움→예측 경험적 기반. 직물 필터 효율: 축적 입자층이 실제 포집 수행→엄밀히 경험적 예측만 가능.
섬유 필터층 단일 실린더 모델
섬유 필터층: 느슨 충진 단일 실린더 집합체. 섬유 전방향 배향이나 이론적 관점서 모든 섬유 가스 흐름 수직 가정. 고체 분율 ~10%. 각 섬유 독립적 집진기 역할. 필터층 입자 제거 계산: 단위 체적당 섬유 수 × 단일 섬유 효율.
단일 필터 요소(고립 실린더, 가스 흐름 수직) 포집 효율 기준 필터층 효율 예측. 기체 내 입자→실린더 표면 도달 3가지 메커니즘:
- 브라운 확산: 입자 브라운 확산→무작위 운동으로 실린더 접촉 포집. 소수 입자 포집 후 농도 기울기 형성→확산 없는 경우 대비 퇴적율 증가 구동력. 입자 브라운 확산도 입자 크기 감소 시 증가→극미세 입자 제거에 이 메커니즘 최고 중요. 확산 분석 시 입자 질량 없는 점으로 취급.
- 차단(Interception): 입자 실린더 주위 유선 따라 흐르다 크기 충분히 커서 표면 접촉→포집. 입자 중심 유선 거리 Dp/2 이내 시 차단 발생. Dp=입자 직경.
- 관성 충돌(Inertial Impaction): 입자 장애물 주위 급커브 유선 따를 수 없어 관성으로 덜 굽은 경로→장애물 방향 진행·충돌. 입자 운동량 때문. 관성 충돌: 입자 질량有·크기無 가정. 차단: 크기有·질量無 가정 대조.
정전 인력(입자/섬유/양쪽 대전)도 포집 기여. 직접(양쪽 대전) 또는 유도(한쪽만 대전). 의도적 섬유 생산 시 대전 도입 외 통상 없음.
메커니즘별 중요 입자 크기 범위: (i) 관성 충돌 >1μm, (ii) 차단 >1μm, (iii) 확산 <0.5μm, (iv) 정전 인력 0.01~5μm. 메커니즘별 개별 분석 후 개별 효율 합산→실린더/장애물 전체 포집 효율 산출 일반적.
실험 결과: 다양한 물질·필터 매체서 집진기 표면 충돌 입자 부착률 일반적으로 1 미만, 경우 0.5까지 저하.
산업용 직물 여과(백하우스)
입자 함유 가스 필터 백 강제 통과. 입자 중력으로 백서 제거. Fig 5: 진동(Fig 5a), 에어 제트(Fig 5b), 이동 링(Fig 5c) 세정 방식 백하우스 설계 3종.
직물 여과 공정 3단계: (1) 위 메커니즘으로 개별 섬유 포집, (2) 기포집 입자 위 축적→섬유 간 브리징 중간 단계, (3) 포집 입자 먼지층(케이크) 형성→유입 입자 충진층 필터 역할. 먼지층 누적→필터 압력 강하 증가→주기적 먼지층 털어내 하부 호퍼 낙하→'재생'.
직물 필터, 특히 기술 공정 연소 가스 처리 시 초고효율 달성 가능. ESP 효율 효율 SO₂ 이온화 종 의존 반면, 직물 필터 저황 조건서도 효율 저하 없음.
직물 필터: 반투과성 직조/펠트 소재→입자 지지체. 새 직조 필터 천: 섬유 직경 ~100~150μm, 섬유 간 공극 50~75μm. 초기 포집 효율 낮음(대부분 입자 직통 통과). 단, 포집 입자 급속 축적→균일 표면 층 형성 후 고효율 제거 가능.
섬유 매트 필터는 직물 필터와 일부 유사하나 축적 입자층 의존 안 함. 통상 세척 안 하고 폐기. 입자 농도 낮을 때 합리적 수명 확보 위해 사용.
직물 필터서 입자층이 제거 수행. 포집 입자층 두꺼워짐→입자층·하부 직물 압력 강하 증가. 직물 필터 조립 설계 2대 고려사항: 포집 효율, 운전 시간(최근 세척 후) 함수 압력 강하. 포집 효율: 국부 가스 속도, 직물 입자 부하 의존.
직물 필터 장점: (i) 초미세 입자도 초고효율 달성, (ii) 다양한 입자 적용, (iii) 넓은 유량 범위 운전, (iv) 중간 압력 강하. 한계: (i) 직물 손상/비경제적 수명 단축 온도 미만 운전 필수, (ii) 직물 공격·세척 방해 성분(끈적한 입자 등) 회피, (iii) 백하우스 넓은 바닥 면적 필요. 장점이 한계 명확히 상회.
습식 집진기(Wet Collectors / Scrubbers)
물 세정으로 가스 스트림서 입자 직접 제거. 스크러버 크게 2주류: (i) 액적 어레이(분무) 집진 매체, (ii) 다양한 습윤 표면 집진 매체. 전자: 분무탑, 벤투리 스크러버. 후자: 플레이트탑, 충진탑.
스크러빙은 미세 입자 제거 매우 효과적. 입자-물방울 충돌로 제거. 스크러버 습윤 환경서 소형 건조 입자 수증기 응축 성장→제거 용이. 입자 물방울/액체층 내 포집→재비산 방지. 기체 수용성 오염물질 동시 제거 가능. 입자 함유 세정액 처리·처분 필요(건식 정화 미발생 문제).
분무 스크러버(Spray Scrubber)
액체 스트림 ~0.1~1mm 직경 물방울 분해→입자 함유 가스 스트림 유입. 이동 물방울 어레이 = 가스 스트림 입자 집진 타겟 집합. 단일 구형 집진기 효율 고려 후 단위 기체 체적당 물방울 수 합산→포집 효율 계산. 물방울-입자 상대 운동 중요(충돌·직접 차단 포집). 미세 입자 확산도 중요.
분무 스크러버 2대 유형:
- 사전 형성 분무: 분무 노즐로 물방울 형성→가스 스트림 분사. (i) 대향 중력탑: 물방울 수직 낙하 vs 상승 가스, (ii) 교차류탑: 물방울 수평 가스 통과, (iii) 동류탑: 수평 분무→수평 가스.
- 가스 스트림 자체로 액체 분무: 액체 대략 벌크 투입→고속 가스 흐름서 파쇄→물방울 형성. 벤투리 스크러버(벤투리=수축부서 고속 달성). Fig 6: 습식 집진 설비 4종.
습식 집진 설비 유형별 상세
- 플레이트 스크러버: 1개 이상 수평 플레이트(트레이) 수직 탑. 가스 하부 유입→각 플레이트 천공 통과→하강수 대향류. 플레이트 유형명 명명(예: 체판탑). 천공 직경 감소→효율 증가. 체판 3.2mm 홀서 공기역학적 직경 ~1μm 입자 50% 효율(cut diameter) 달성.
- 충진층 스크러버: 충진층 가스 흡수탑과 유사 운전. 충진 크기 감소→효율 증가. 2.5cm 충진 요소 컬럼서 공기역학적 직경 1.5μm cut diameter 달성.
- 분무 스크러버: 분무 노즐 분무 액적 포집. 수평/수직 가스 흐름, 동류/대향/교차류 분무. 효율: 액적 크기, 가스 속도, 액/가스 비, 액적 궤적 의존. 종단 속도 낙하 액적 미세 입자 포집 최적 직경 100~500μm. 중력 침강 스크러버 ~2μm cut diameter 달성. 액/가스비 0.001~0.01 m³/m³ 처리 가스.
- 벤투리 스크러버: 이동 가스 스트림 액체 분무→물방울 형성. 고가스 속도(60~120m/s)→가스-입자 고상대 속도→포집 촉진.
- 사이클론 스크러버: 사이클론 가스 스트림 내 물방울 주입 포집. 중앙 매니폴드서 외향 또는 수집기 벽면서 내향 분무.
- 배플 스크러버: 고체 표면 유도 가스 유속·방향 변화.
- 충돌-동반 스크러버: 가스 액체 표면 강제 충돌→가스 출구 도달. 일부 액체 분무→가스 동반. 출구 동반 액적 손실 최소화 설계.
- 유동층 스크러버: 유동화 충진 구역서 가스-액체 친밀 혼합. 가스 하향 통과, 액체 하부 분무/상부 유동층 상단 하향 흐름.
습식 집진기 포집 효율 = 장치 단위 체적당 총 에너지 손실 관련. 단위 처리 가스 체적당 스크러버 동력 높을수록 효율 우수. 거의 모든 에너지 가스 투입→가스 압력 강하로 에너지 손실 측정. 습식 집진기 최대 장점: 다양한 유형→특정 제거 문제에 적합한 장치 선택 가능. 단점: 고압력 강하(고에너지 소요) 유지, 대량 세정액 처리·처분 필요.
분무 스크러빙: 중력 분무실
개념적 최단순 장치. 빈 챔버 상부 분무 노즐 물 주입→종단 침강 속도 자유 낙하→상승 가스 대향류 통과. 입자 함유 액체 하부 풀 집수→펌핑→고형물 제거 처리→세정액 통상 재순환. 전체 효율: 단일 물방울 포집 효율↑, 챔버 길이↑, 액/가스 체적유량비↑, 물방울 직경↓ 시 증가.
벤투리 스크러버(Venturi Scrubber)
고포집 효율 필요, 대상 입자 대부분 <2μm 시 사용. 끈적/인화성/고부식성 입자 등 ESP·백필터 불가 사례서 벤투리 스크러버 유일한 실용적 고효율 입자 집진기. 기체상 오염물질 동시 제거 가능한 유일한 고효율 입자 집진기이기도 함.
벤투리 스크러버 특징: 가스 고속 통과 목구멍(throat) 수축 단면. 전형적 구성(Fig 7): 수렴 원뿔(가스 목구멍 속도 가속), 원통 목구멍, 발산 원뿔(가스 감속). 액체 유입: 입구 원뿔 접선 홀 또는 목구멍 직접. 전자: 벽면 액막 형성→목구멍 하강→고속 가스 스트림서 분무. 후자: 목구멍 수직 주입→분무→가속. 60~120m/s 가스 속도 달성. 고상대 속도→포집 촉진. 포집 공정 목구멍 끝 완료. ESP·백하우스보다 고속 운전→물리적 크기 작음, 내식성 소재 경제적 제작 가능. 스크러버 중 최단순 구성, 최소 크기. Fig 7: 벤투리 스크러버 구성 및 타 가스 정화 장치 효율 비교.
벤투리 스크러버 전형적 액/가스 유량비: 0.001~0.003 m³액/m³가스. 고액/가스비→주어진 압력 강하서 가스 속도 저감, 저비→속도 증가. 가스 유량 ~1,000 m³/min 초과 시 직사각형 구성으로 목구멍 면적 위 액체 균일 분포 유지.