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수직 전기장으로 청색 인광체/그래핀형 GaN 반데르발스 헤테로구조의 밴드갭 엔지니어링

요약

제1원리 밀도범함수 계산 결과 단일층과 이중층 청색 인광체/그래핀형 GaN 반데르발스(vdW) 헤테로구조 모두 타입-II 밴드 정렬을 가진 간접 밴드갭 반도체임이 밝혀졌습니다. 밴드갭(E_g)은 외부 수직 전기장(E_ext)에 의해 선형적으로 조절 가능하며 현저한 스타크 효과를 보입니다. 전기장이 임계값(단일층 ≈0.9 eV/Å, 이중층 ≈0.7 eV/Å)을 초과하면 헤테로구조는 반도체-금속 전이를 겪습니다.

서론

이차원(2D) 소재(그래핀, 전이금속 칼코겐화물, 흑린, 최근 보고된 그래핀형 GaN(g-GaN))는 탁월한 전자적, 광학적 특성과 차세대 나노전자 소자 잠재력으로 지속적인 관심을 받고 있습니다. 청색 인광체(blue-P)는 금의 파상 단일층 인으로 Au(111)와 GaN(001) 기판 상에서 에피택셜 성장되었으며, 상당한 밴드갭과 높은 캐리어 이동도를 제공합니다. g-GaN은 마이그레이션 강화 캡슐화 성장으로 합성된 간접 밴드갭 반도체로 외부 전기장으로 효율적으로 조절 가능합니다. 청색 인광체와 g-GaN 간의 긴밀한 격자 매칭(~2%)은 청색 인광체/g-GaN vdW 헤테로구조를 밴드 구조 엔지니어링과 층간 전하 이동 탐색을 위한 매력적인 플랫폼으로 만듭니다.

청색 인광체/TMDs와 청색 인광체/그래핀 헤테로구조에 대한 집중적 연구에도 불구하고 청색 인광체/g-GaN 시스템의 전자적 거동은 거의 알려져 있지 않습니다. 여기서는 vdW 보정된 DFT를 사용해 단일층과 이중층 청색 인광체/g-GaN 헤테로구조의 밴드 구조, 밴드 정렬, 전기장 유도 밴드갭 조절을 조사합니다.

계산 방법

CASTEP 패키지로 평면파 DFT 계산을 수행했으며 투영 증강파(PAW) 베이시스를 사용했습니다. 교환-상관 효과는 일반화 기울기 근사(PBE)로 처리했고, 밴드갭은 HSE06 하이브리드 함수로 보정했습니다. 반데르발스 상호작용은 Grimme의 DFT-D2 방식으로 포함했습니다. 500 eV 평면파 컷오프와 7×7×1 k-포인트 메시를 기하 최적화에 사용했으며, 전자 상태는 21×21×1 그리드로 샘플링했습니다. c-축 방향 20 Å 진공 층으로 주기적 이미지 간 상호작용을 무시할 수 있게 했습니다. 힘이 0.001 eV/Å 미만으로 떨어질 때까지 구조 완화를 수행했습니다.

결과 및 논의

단일층 청색 인광체와 g-GaN의 최적화된 격자 상수는 각각 3.25 Å와 3.20 Å로, 격자 부정합은 약 2%에 불과합니다. 평형 층간 간격은 단일층 3.57 Å, 이중층 3.52 Å이며 결합 에너지는 약 49 meV로 BP/그래핀 등 다른 vdW 시스템과 유사합니다.

수직 전기장으로 청색 인광체/그래핀형 GaN 반데르발스 헤테로구조의 밴드갭 엔지니어링
a 이중층 청색 인광체/g-GaN 측면도 및 평면도. b 결합 에너지 vs 층간 거리.

밴드 구조 계산 결과 단일층 헤테로구조는 1.26 eV(GGA), 2.20 eV(HSE06), 이중층은 1.075 eV(GGA)/1.91 eV(HSE06)의 간접 밴드갭을 가집니다. 전도대 최소(CBM)는 M 점 근처, 가격대 최대(VBM)는 K 점에 위치해 타입-II(엇갈린) 정렬임을 확인했습니다. 복합체와 순수 청색 인광체 간 일함수 차이는 단일층 ΔE_F=-1.17 eV, 이중층 -0.81 eV로 관측된 밴드 오프셋과 일치합니다.

수직 전기장으로 청색 인광체/그래핀형 GaN 반데르발스 헤테로구조의 밴드갭 엔지니어링
a 단일층 및 이중층 청색 인광체/g-GaN 밴드 구조. b-d 밴드 정렬 및 일함수.

외부 수직 전기장(E_ext) 인가 시 E_g가 스타크 효과 같은 선형 의존성을 보이며 조절됩니다. 단일층의 경우 양전장에서 E_g가 0.5 eV/Å까지 증가하다 포화 후 0.6 eV/Å 초과 시 감소해 ≈0.9 eV/Å에서 갭이 닫힙니다. 이중층은 유사한 경향이나 더 낮은 전기장(≈0.7 eV/Å)에서 반도체-금속 전이에 도달합니다. 음전장에서는 E_g가 선형적으로 감소해 단일층 ≈-0.8 eV/Å, 이중층 ≈-0.5 eV/Å에서 갭이 사라집니다.

수직 전기장으로 청색 인광체/그래핀형 GaN 반데르발스 헤테로구조의 밴드갭 엔지니어링
a 단일층 및 이중층 E_g vs E_ext. b-e 선택된 전기장 세기에서의 밴드 구조.

전하 밀도 분석 결과 양전장에서 전자가 청색 인광체 층에서 g-GaN 층으로, 음전장에서는 역방향으로 이동함을 보였습니다. 축적 전하는 ±0.5 eV/Å에서 가장 강해 스타크 효과의 기반이 되는 전기장 유도 전하 이동을 확인했습니다.

수직 전기장으로 청색 인광체/그래핀형 GaN 반데르발스 헤테로구조의 밴드갭 엔지니어링
a-d 다양한 E_ext 값에서 전하 축적(주황) 및 고갈(녹색) 등가면. e 평면 평균 전하 밀도 차이.

투영 상태 밀도 계산 결과 가격대 최대는 주로 g-GaN 상태, 전도대 최대는 주로 청색 인광체에서 유래해 타입-II 정렬을 강화합니다.

수직 전기장으로 청색 인광체/그래핀형 GaN 반데르발스 헤테로구조의 밴드갭 엔지니어링
a 총 및 투영 DOS. b 0.5 eV/Å(단일층) 및 0.7 eV/Å(이중층)에서 전하 이동 등가면.

결론

제1원리 계산으로 단일층과 이중층 청색 인광체/g-GaN vdW 헤테로구조가 타입-II 밴드 정렬을 가진 간접 밴드갭 반도체임이 입증되었습니다. 밴드갭은 수직 전기장으로 선형적으로 조절 가능하며 현저한 스타크 효과를 보이고, 전기장이 단일층 ≈0.9 eV/Å, 이중층 ≈0.7 eV/Å를 초과하면 제어 가능한 반도체-금속 전이가 일어납니다. 이러한 발견은 청색 인광체/g-GaN 헤테로구조 기반 전기적 튜닝 가능한 2D 광전자 소자 설계에 명확한 경로를 제공합니다.

약어

2D
이차원
Blue-P
청색 인광체
BP
흑린
CASTEP
Cambridge Serial Total Energy Package
CBM
전도대 최소
DFT
밀도범함수 이론
GGA
일반화 기울기 근사
g-GaN
그래핀형 GaN
MEEG
마이그레이션 강화 캡슐화 성장
PAW
투영 증강파
PBE
Perdew-Burke-Ernzerhof
TMDs
전이금속 칼코겐화물
VBM
가격대 최대
vdW
반데르발스

나노물질

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