고저항 결정립 경계는 Li₇La₃Zr₂O₁₂(LLZO) 고체 전해질에서 Li⁺ 수송의 병목 현상입니다. 본 연구에서는 LLZO/Li₂CO₃/Ga₂O₃ 다중 나노층을 600°C에서 2시간 어닐링해 입방상과 결정립 사이의 비정질 영역을 가진 고전도성 LLZO 박막을 제조했습니다. 비정질 영역은 Li⁺를 위한 추가 빈자리를 제공해 결정립 경계에서의 Li⁺ 축적을 완화할 수 있습니다. 결정립 경계를 가로지르는 이온 전도도가 크게 향상되어, 공간 전하층에 의한 Li⁺ 이동의 높은 에너지 장벽이 효과적으로 낮아짐을 입증했습니다. 낮은 에너지 장벽의 Li⁺ 수송 경로 덕분에 제시된 LLZO 박막은 6.36×10⁻⁴ S/cm의 최고 수준 이온 전도도를 보이며, 박막 리튬 전지 응용에 유망합니다.
서론
5G 이동통신 네트워크의 부상으로 모바일 단말의 전력 소비가 크게 증가할 전망입니다[1-3]. 높은 에너지 밀도, 긴 사이클 수명, 우수한 안전성을 가진 박막 리튬 전지(TFLB)는 스마트 카드[4] 등 지능형 단말의 집적 전원으로 큰 기대를 모읍니다. 현재 대부분의 실용적 TFLB는 LiPON 고체 전해질 기반입니다[5]. 하지만 LiPON의 낮은 이온 전도도가 TFLB 성능을 제한합니다. 석류석형 Li₇La₃Zr₂O₁₂(LLZO)는 높은 이온 전도도, 넓은 전기화학적 창, 리튬 금속 음극에 대한 안정성으로 또 다른 유망한 대안입니다[6-10]. 그러나 높은 이온 전도도를 가진 LLZO 박막 제조는 여전히 과제로 남아 있습니다[11,12].
고체에서 Li⁺ 수송을 위한 에너지적으로 유리한 경로는 높은 이온 전도도 달성의 열쇠 중 하나입니다[13,14]. 다결정 LLZO 박막의 경우, Li⁺ 전도 성능을 결정하는 두 가지 에너지 장벽이 있습니다. 하나는 결정립 내 Li⁺ 수송과 관련됩니다. Li⁺가 점유할 수 있는 격자 자리는 에너지적으로 비등가적이므로, Li⁺는 이들 사이를 홉핑할 때 에너지 장벽(EBg)을 넘어야 합니다[15-18]. 다른 하나는 결정립 경계(GB)를 가로지르는 Li⁺ 수송과 관련됩니다[19,20]. GB의 격자 결함은 Li⁺ 축적을 유발합니다. GB 주변의 Li⁺ 점유 가능 자리가 고갈되어 공간 전하층이 형성됩니다(그림 1a 주황선). 공간 전하 효과는 높은 이동 에너지 장벽(EBgb, 그림 1a 빨간선)을 초래합니다[21]. 일반적으로 LLZO에서 EBgb(~0.7eV)는 EBg(~0.3eV)보다 훨씬 높습니다[20].
기존 결정립 경계(a)와 비정질 영역이 있는 결정립 경계(b)에서의 이동 장벽과 Li 공공 농도 도식
입방상 LLZO에서 Li⁺ 점유 가능 자리인 사면체 24d 자리(Li1)와 왜곡된 팔면체 96h 자리(Li2)가 에너지적으로 거의 등가임이 보고되었습니다[16,22,23]. 따라서 입방상 LLZO의 EBg는 보통 수준(~0.3eV)이라고 여겨집니다. 입방상 LLZO는 상온에서 준안정적이지만, Al³⁺, Ga³⁺, Ta⁵⁺ 같은 고가 양이온 도핑으로 안정화하는 전략은 잘 개발되어 있습니다[24-33]. Lobe 등은 이온 전도도 1.2×10⁻⁴ S/cm, 활성화 에너지 0.47eV의 Al 도핑 LLZO 박막을 보고했습니다[34]. 결정 격자 내 높은 Li⁺ 농도가 EBg를 추가로 낮출 수 있다는 견해도 있습니다[11,13]. 스퍼터링 증착 중 추가 Li₂O를 도입해 활성화 에너지 0.38±0.02eV의 LLZO 박막을 제조한 사례도 있습니다[12,35]. Li₂O는 스퍼터링 중 리튬 손실을 효과적으로 보상합니다. 반면, 높은 EBgb에서 기인한 전도 문제를 해결하는 전략은 드뭅니다. 고저항 GB가 LLZO에서 Li⁺ 수송의 병목임은 잘 알려져 있습니다[14,21].
본 연구에서는 결정립 사이에 비정질 영역을 가진 LLZO 박막을 입증합니다. 비정질 영역은 추가 Li⁺ 공공[21,36-38]과 더 낮은 이동 장벽(~0.6eV)[36]을 GB에서 제공해 공간 전하 효과를 약화시키고 EBgb를 낮춥니다(<0.7eV)[21,38](그림 1b). 제시된 LLZO 박막은 LLZO, Li₂CO₃, Ga₂O₃의 순차 적층 나노층을 반복 증착한 후 어닐링해 제조했습니다(그림 2). 각 층의 초박막 두께는 다층 구조 내 상호 확산을 촉진해, Ga₂O₃가 LLZO의 입방상 안정화를 돕고 Li₂CO₃가 증착 및 어닐링 중 Li 손실을 보상하게 합니다. 어닐링 온도를 세심하게 조절해 원하는 입방상과 결정립 간 비정질 영역을 가진 LLZO 박막을 얻었습니다. 전기화학적 임피던스 측정 결과 제시된 LLZO 박막 고체 전해질이 6.36×10⁻⁴ S/cm의 높은 이온 전도도를 달성함을 보였습니다.
제시된 LLZO 박막 제조 공정 개략도
방법
Ga-LLZO 박막 고체 전해질 제조
LLZO, Li₂CO₃, Ga₂O₃의 초박막 층을 순수 Ar 분위기에서 연마된 MgO(100) 기판 위에 고주파 마그네트론 스퍼터링으로 순차 증착했습니다. LLZO, Li₂CO₃, Ga₂O₃ 삼중층 단위를 80사이클 반복 증착해 두께 ~1500nm(±10%)의 다층 박막을 얻었습니다(그림 S1). Li₇La₃Zr₂O₁₂(99%), Li₂CO₃(99%), Ga₂O₃(99.9%) 타겟은 190mm×55mm Cu 백킹 플레이트에 장착해 중국 Zhongnuo 신소재 제조사에서 제공받았습니다. 여기 사용된 LLZO 타겟은 원하는 입방상(그림 S2)을 가지며 밀도는 5.35g/cm³입니다. 증착 압력은 1Pa입니다. LLZO 증착 전력 밀도는 2.38W/cm², Li₂CO₃와 Ga₂O₃는 1.90W/cm²입니다. 증착된 다층 박막을 순수 산소(99.99%)에서 600°C, 700°C, 800°C로 각각 2시간 어닐링했습니다.
특성 분석
LLZO, Li₂CO₃, Ga₂O₃ 각 단일층 두께는 스텝 프로파일러로 측정했습니다(자세한 내용은 주석 S1과 표 S1 참조). 박막의 결정 구조는 Cu-Kα 소스를 사용해 2θ 10-60° 범위에서 X선 회절(XRD)로 결정했습니다. 화학 조성은 비행시간형 이차 이온 질량 분석(TOF-SIMS)과 에너지 분산형 X선 분광(EDX) 검출기를 장착한 고해상도 투과 전자 현미경(HRTEM)으로 분석했습니다. 이온 전도도는 실온(25°C)에서 평면 내 테스트 구성으로, 3×10⁶~1Hz 주파수 범위와 30mV 교류 진폭으로 전기화학적 임피던스 분광(EIS)을 측정해 결정했습니다. LLZO 박막 상단의 알루미늄 접촉은 직류 마그네트론 스퍼터링으로 제작했습니다. EIS 데이터는 Zview 소프트웨어로 처리했습니다.
결과 및 논의
LLZO 박막 시료와 공정 매개변수는 표 1에 요약되어 있습니다. Li 보충과 Ga 도핑 없는 시료 #800-1은 800°C에서 2시간 어닐링 후 Li 결핍상인 La₂Zr₂O₇(LZO) 상을 보입니다(그림 3a). Ga₂O₃와 Li₂CO₃ 도입 후, #800-2의 XRD 패턴에서 LLZO 입방상에 속하는 회절 피크가 관찰됩니다(그림 3b). 이는 Ga 도펀트와 추가 Li가 LLZO의 원하는 입방상 형성 및/또는 안정화에 유리함을 시사합니다. 그러나 28.2°에서 LZO에 색인된 강한 회절 피크가 #800-2의 XRD 패턴에 남아 있습니다. 어닐링 온도를 700°C로 낮추면 28.2° 회절 피크 강도가 현저히 감소합니다(그림 3c). 이는 추가 Li를 도입해도 고온 어닐링이 심각한 Li 손실을 초래할 수 있음을 나타냅니다. 어닐링 온도를 600°C로 더 낮추면 입방상 LLZO 주 상과 무시할 만한 LZO 회절 피크를 가진 박막을 얻었습니다(그림 3d). 우리 관찰은 선행 문헌[11,12]과 일치하며, Ga 도핑 LLZO 박막에서 입방상 형성이 600°C에서 촉발되고 700-800°C에서 LZO가 형성될 수 있음을 보고합니다.
#800-1(a), #800-2(b), #700-1(c), #600-1(d)의 XRD 패턴과 입방상 LLZO(e) 및 LZO(f) 표준 회절 패턴
한편, Li₂CO₃나 Ga₂O₃의 회절 피크는 XRD 패턴에서 관찰되지 않습니다(그림 3). 또한 #600-1의 TOF-SIMS 조성 깊이 프로파일에서 CO₃²⁻ 신호가 박막 전체에서 매우 낮습니다(그림 4 주황선). 그리고 #600-1의 충분한 Li 함량은 기록된 ⁶Li⁺ 계수의 높은 강도로 입증됩니다(그림 4 빨간선). 따라서 다층 박막의 Li₂CO₃는 600°C에서 2시간 어닐링 후 완전히 분해되었으며, 박막 증착과 열처리 중 Li 손실을 효과적으로 보상했습니다. 또한 LLZO와 CO₂의 바람직하지 않은 반응으로 저전도성 Li₂CO₃ 층이 형성되는 것 역시 순수 산소 어닐링 분위기로 효과적으로 방지되었습니다. 이 추론은 측정된 #600-1의 높은 이온 전도도와 일치합니다(아래 참조).
#600-1의 TOF-SIMS 깊이 프로파일: ⁶Li⁺(빨강), La³⁺(초록), Zr⁴⁺(검정), Ga³⁺(남색), CO₃²⁻(주황)
TOF-SIMS 특성화는 #600-1 박막 전체에 ⁶Li⁺, La³⁺, Zr⁴⁺, Ga³⁺가 균일하게 분포함을 보여줍니다(그림 4). 일반적으로 전구체 층 간 상호 확산이 고체 상태 반응의 속도 조절 단계입니다. Huang 등은 700-900°C에서 2시간 어닐링 시 Ga₂O₃와 LLZO 전구체 층 간 상호 확산 거리가 약 10-20nm라고 보고했습니다. 따라서 본 연구에서 각 전구체 층 두께를 10nm 미만으로 설정했습니다. 여기에서 제작된 LLZO, Li₂CO₃, Ga₂O₃ 나노층 기반 다층 구조는 전구체들의 필요 확산 거리를 크게 줄여 균일한 혼합을 촉진합니다. 더 두꺼운 전구체 층에서 유래한 LLZO 박막에서 관찰된 도펀트 원소의 불균일한 분포[11]는 여기에서 관찰되지 않습니다. 증착 박막과 MgO 기판 사이 계면 층에서 Li 농축이 관찰됩니다. 이는 Li⁺가 MgO 격자로 확산된 데 기인해야 합니다[34].
요약하면, LLZO/Li₂CO₃/Ga₂O₃ 다층은 이 초박막 층들 간 충분한 상호 확산 덕분에 잘 혼합되고 반응했습니다. 게다가 Ga 도핑과 추가 Li가 있는 다층 박막의 반응 속도론은 입방상 LLZO와 낮은 EBg를 제조하기 위해 600°C에서 최적화되었습니다.
앞서 언급했듯 LLZO의 Li⁺ 전도 성능은 GB 구조에 크게 영향을 받습니다(그림 1). #600-1의 미세구조는 HRTEM으로 자세히 특성화했습니다. LLZO와 H₂O 또는 CO₂ 반응의 전형적 지표인 교차 구조가 HRTEM 이미지에서 관찰됩니다(그림 5a,b). 그러나 #600-1의 XRD 패턴과 TOF-SIMS 깊이 프로파일은 제조된 LLZO 박막이 H₂O나 CO₂와 반응하지 않음을 시사합니다. 따라서 교차 구조 형성을 테스트 시료 준비 중 LLZO 박막이 공기에 노출된 탓으로 돌리는 것이 타당합니다. 주목할 점은 결정립 사이에 비정질 영역이 관찰된다는 점입니다(그림 5a,b). 이는 #600-1 LLZO 박막이 어닐링 후 완전히 결정화되지 않았음을 나타내며, #600-1 XRD 패턴에서 관찰된 상대적으로 큰 반치전폭(FWHM)과 일치합니다(그림 3d). EDX 매핑은 결정립과 비정질 영역 전반에 Ga, La, O, Zr이 균일하게 분포함을 보여줍니다(그림 5c-f). 따라서 비정질 영역은 유리질 Li-Ga-La-Zr-O 산화물로 구성됨을 제안합니다. 비정질 LLZO가 Li⁺ 전도체임은 알려져 있습니다. 일반적인 이온 전도도와 활성화 에너지는 각각 1×10⁻⁶ S/cm와 ~0.6eV입니다[36]. Li⁺ 전도성 비정질 영역은 결정립 간 물리적 접촉을 개선해 박막 내 Li⁺ 수송 경로의 연속성을 높입니다[20]. 더 중요하게, 결정립 사이의 비정질 영역은 Li⁺를 위한 추가 빈자리를 제공할 잠재력이 있습니다[21,36-38]. 기존 LLZO GB에서는 Li⁺ 점유 가능 자리가 고갈되지만[19,20], 비정질 영역에서는 Li⁺ 간 정전기적 반발이 감소합니다. 즉, 비정질 영역이 해로운 공간 전하 효과를 완화하고 GB를 가로지르는 Li⁺ 수송의 EBgb를 낮출 수 있습니다(그림 1b). 결과적으로 현재 LLZO 박막 고체 전해질 #600-1에서 결정립 경계 저항(Rgb)이 감소할 것으로 기대됩니다.
LLZO 박막 #600-1의 HRTEM 이미지(a, b) 및 원소 매핑(c Ga, d La, e O, f Zr)
제시된 LLZO 박막의 EIS 측정은 그림 6a에 표시된 평면 내 테스트 구성으로 수행했습니다. 총 이온 전도도(σtotal)는 다음 식에 따라 계산할 수 있습니다:
a EIS 측정을 위한 평면 내 테스트 구성. b 실온에서 측정된 LLZO 박막 #600-1의 임피던스 스펙트럼 나이퀴스트 플롯, 삽입도는 EIS 분석을 위한 등가 회로
여기서 L은 두 접촉 전극 간 거리, S는 전극 면적, Rtotal은 EIS 측정으로 결정된 LLZO 박막의 총 저항입니다. 측정된 임피던스 스펙트럼의 나이퀴스트 플롯(그림 6b 및 그림 S2a, S2b)은 삽입도에 도시된 등가 회로로 피팅되며, 이는 상수 위상 요소(CPE)와 병렬인 두 저항 원의 직렬 조합으로 구성됩니다. 등가 회로의 Rbulk와 Rgb는 각각 LLZO 박막의 벌크 저항과 결정립 경계 저항을 나타냅니다. LLZO 박막의 결정립 경계 이온 전도도(σgb)도 두 평행 접촉 전극 거리로 정규화되며, 다음 식에 따라 계산할 수 있습니다[39]:
기하학적 매개변수(L, S)와 등가 회로 요소의 피팅 값(Rtotal, Rbulk, Rgb, Cbulk, Cgb)은 표 S2에 요약되어 있습니다. 표 2는 제시된 LLZO 박막의 실온에서 계산된 σbulk, σgb, σtotal을 요약합니다. #800-1의 σtotal은 Li 결핍 LZO 상이 지배적이어서 10⁻⁸ S/cm 미만입니다. Ga 도펀트와 추가 Li가 있는 시료 #800-2, #700-1, #600-1의 σtotal은 각각 5.63×10⁻⁷, 3.89×10⁻⁵, 6.36×10⁻⁴ S/cm입니다. 이 경향은 두 가지 이유 때문일 수 있습니다. 첫째, 어닐링 온도가 낮아짐에 따라 제조된 박막 내 고저항 LZO 비율이 줄어들며, 이는 XRD 패턴(그림 3b-d)으로 입증됩니다. 둘째, #600-1의 회절 피크 강도가 다른 두 시료보다 훨씬 낮습니다. 낮은 결정성은 결정립 사이 비정질 영역 형성과 관련될 수 있습니다. 앞서 언급했듯 결정립 사이 비정질 영역은 GB를 가로지르는 Li⁺ 수송의 에너지 장벽을 낮출 수 있습니다(그림 1). 또한 #600-1의 결정립 크기는 약 50nm(그림 S3)로, 선행 연구에서 보고된 일반적인 값(수백 나노미터)보다 작아 더 많은 고저항 GB를 유발할 수 있습니다. 그러나 #600-1의 이온 전도도는 최고 수준에 도달합니다. 이러한 사실은 GB를 가로지르는 Li⁺ 수송의 에너지 장벽을 낮추는 본 전략이 효과적임을 잘 보여줍니다. EIS 데이터 분석 결과 #600-1의 σgb가 #700-1보다 거의 2배 높음을 보여줍니다. #800-1과 #800-2는 높은 결정립 경계 저항으로 σbulk와 σgb를 정량화하기 어렵습니다.
결론
요약하면, Ga 도펀트와 추가 Li를 도입하고 어닐링 온도를 세심하게 최적화해 입방상과 결정립 사이 비정질 영역을 가진 LLZO 박막을 얻었습니다. 첫째, 입방상 LLZO 격자 내 Li⁺ 자리 간 작은 에너지 격차는 결정립 내 Li⁺ 수송의 낮은 에너지 장벽을 이끕니다. 더 중요하게, 비정질 영역은 GB 주변에 추가 Li⁺ 빈자리를 제공해 공간 전하 효과를 완화함으로써 GB를 가로지르는 Li⁺ 수송의 에너지 장벽을 낮춥니다. 결과적으로 낮은 이동 에너지 장벽을 가진 Li⁺ 수송 경로 덕분에 제시된 LLZO 박막은 실온에서 6.36×10⁻⁴ S/cm의 이온 전도도를 보이며, 이는 TFLB 응용에 매력적입니다.
데이터 및 소재 가용성
저자들은 독자들에게 과도한 소재 이전 계약 자격 없이 자료와 데이터를 즉시 제공할 수 있음을 선언합니다. 본 연구에서 생성되거나 분석된 모든 데이터는 본 논문에 포함되어 있습니다.